[實用新型]氣體輸送系統有效
| 申請號: | 201220434914.5 | 申請日: | 2012-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN202758844U | 公開(公告)日: | 2013-02-27 |
| 發明(設計)人: | 鄭修鋒;解毅;朱義黨;胡可綠;王華鈞;忻圣波 | 申請(專利權)人: | 上海宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32;C23C16/455 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 輸送 系統 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體制造裝置,尤其是用于輸送反應物氣體到處理腔室的系統。
背景技術
在半導體制造工藝中,多個場合需要使用反應物氣體。例如在化學氣相沉積(CVD)中,不同反應物的反應物氣體同時被輸送給反應腔內的一個或多個襯底,并且在預設的溫度和壓力下彼此反應以在襯底上生長薄膜。又如在原子層沉積(ALD)中,交替并重復地向反應腔內的襯底輸送不同的反應物氣體形成分子單層薄膜,以與前一種反應物形成的分子單層進行反應,直至達到目標厚度?;蛘咴诘入x子體干法蝕刻工藝中,蝕刻氣體與惰性氣體同時被輸送至反應腔,在電場的作用下,蝕刻氣體轟擊襯底,以物理和/或化學作用削減襯底的厚度。
參見圖1所示的現有的氣體輸送系統與反應腔連接的示意圖,反應氣體或者惰性氣體首先通過過濾器,再通過流量調節閥門后進入反應腔。然而,在某些工藝中,前級管道(foreline)中的氣體會出現返流的情況,返流氣體進入過濾器之后,可能會導致過濾器的污染,導致其過濾效果下降,一方面縮短過濾器的使用壽命、使得生產成本上升;另一方面導致進入反應腔的反應氣體帶有雜質,影響局部放電性能以及成品率,嚴重時可能會導致襯底的報廢。
實用新型內容
本實用新型針對現有技術中前級管道氣體返流造成雜質污染的問題,對氣體輸送系統進行改進。
本實用新型所采用的技術方案是:一種氣體輸送系統,包括連接至氣源的氣體入口、連接至反應腔的氣體出口;連接于氣體入口與氣體出口之間的過濾器;連接于過濾器與氣體出口之間的流量控制閥;連接于過濾器與流量控制閥之間的止回閥。
通過以上技術方案的實施,本實用新型所達到的優點是:止回閥能夠阻擋返流氣體,使得返流氣體不會對過濾器造成影響,能夠保證過濾器的性能不受影響,一方面降低由于更換過濾器帶來的成本增加,另一方面確保后續生產中氣體的純凈,使得其局部放電性能不受影響,保證生產的成品率。
附圖說明
通過附圖中所示的本實用新型的優選實施例的更具體說明,本實用新型的上述及其它目的、特征和優勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標記指示相同的部分。并未刻意按實際尺寸等比例縮放繪制附圖,重點在于示出本實用新型的主旨。
圖1為現有的氣體輸送系統與反應腔連接的示意圖;
圖2為本實用新型提出的氣體輸送系統與反應腔連接的示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型的實施例作詳細說明:本實施例在以本實用新型技術方案為前提下進行實施,給出了詳細的實施方式,但本實用新型的保護范圍不限于下述的實施例。
參見圖2所示的本申請提出的氣體輸送系統,它包括連接至氣源的氣體入口1、連接至反應腔3的氣體出口2;連接于氣體入口1與氣體出口2之間的過濾器4,用于過濾氣體中的雜質;連接于過濾器4與氣體出口2之間的流量控制閥5,該流量控制閥5可以僅為開關閥,用于打開和切斷氣流,也可以為能夠調整流量,用于調整進入反應腔的氣體的流量;連接于過濾器4與流量控制閥5之間的止回閥(單向閥)6。
為了實現反應,所述反應腔3上通常連接有多條上述氣體輸送系統,多條氣體輸送系統連接至各種不同的氣源,氣源為各種不同的反應氣體或者惰性氣體,本實施例僅以兩條氣體輸送系統為例,但并不構成對實施方式的限制。
本氣體輸送裝置,由于具有了止回閥6,即使出現氣體返流的情況,返流氣體因為受到止回閥6的阻擋,并不會進入過濾器4,不會對過濾器4造成影響,能夠保證過濾器4的性能不受影響,一方面降低由于更換過濾器4帶來的成本增加,另一方面確保后續生產中氣體的純凈,使得其局部放電性能不受影響,保證生產的成品率。
本實用新型雖然以較佳實施例公開如上,但其并不是用來限定權利要求,任何本領域技術人員在不脫離本實用新型的精神和范圍內,都可以做出可能的變動和修改,因此本實用新型的保護范圍應當以本實用新型權利要求所界定的范圍為準。
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