[實用新型]基板顯影后清洗裝置有效
| 申請號: | 201220431632.X | 申請日: | 2012-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN202725542U | 公開(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發明(設計)人: | 余海;崔綴奎;馬超;歐陽欠 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/04 | 分類號: | B08B3/04 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 韓國勝 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 清洗 裝置 | ||
1.一種基板顯影后清洗裝置,包括依次鄰接的初級清洗區、中級清洗區和終極清洗區,顯影后基板依次經過初級清洗區、中級清洗區和終極清洗區進行清洗,每個清洗區設置有供水管和排廢管,所述中級清洗區和終極清洗區之間設置有第一集水池,終極清洗區的終極排廢管和中級清洗區的中級供水管分別與所述第一集水池相連,其特征在于,所述初級清洗區和中級清洗區之間設置有第二集水池,初級清洗區的初級供水管和中級清洗區的中級排廢管與所述第二集水池相連。
2.如權利要求1所述的基板顯影后清洗裝置,其特征在于,所述第一集水池和第二集水池相連通,以將第二集水池內的循環水輸送至第一集水池。
3.如權利要求2所述的基板顯影后清洗裝置,其特征在于,所述第一集水池和第二集水池鄰接設置,共用一塊側壁板,該共用側壁板上設置有第一溢流孔,所述第一集水池和第二集水池通過第一溢流孔連通。
4.如權利要求3所述的基板顯影后清洗裝置,其特征在于,所述第二集水池上設置有第二溢流孔,所述第二溢流孔的高度低于所述第一溢流孔的高度。
5.如權利要求1所述的基板顯影后清洗裝置,其特征在于,所述中級供水管上設置有動力泵,以將所述第一集水池內的循環水供給中級清洗區。
6.如權利要求1所述的基板顯影后清洗裝置,其特征在于,所述初級供水管上設置有動力泵,以將所述第二集水池內的循環水供給初級清洗區。
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