[實用新型]基板顯影后清洗裝置

有效

• 申請號: 201220431632.X
• 申請日: 2012-08-28
• 公開（公告）號: CN202725542U
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 余海;崔綴奎;馬超;歐陽欠
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝

技術領域

本實用新型涉及光刻技術，特別是涉及一種基板顯影后清洗裝置。

背景技術

在液晶顯示裝置的制作過程中，基板都需要經過涂布光刻膠、曝光、顯影這樣一個光刻工序。顯影的目的是去除在曝光過程中發生了光學反應的光刻膠，從而在基板上形成與曝光掩模板對應的光刻膠圖形，顯影后基板上覆蓋有光刻膠的位置，在下一個工序刻蝕的過程中由于光刻膠的保護，相應位置的金屬或非金屬膜不會受到損害，從而最后達到在基板上形成TFT（Thin?Film?Transistor,薄膜場效應晶體管）電路的目的。

顯影后還需要對玻璃基板上被顯影的光刻膠和殘留的顯影液進行清洗，如果清洗不徹底，基板上會殘留藥液以及光刻膠顆粒，最終會引起基板不良。

目前的基板顯影后清洗裝置的結構示意圖參照圖1所示，圖中A為基板顯影區，H表示顯影后基板走向，基板顯影區緊挨著顯影后清洗裝置，顯影后清洗裝置包括三級清洗單元，對顯影后基板進行三個階段的清洗，三級清洗單元具體設置為依次鄰接的初級清洗區B、中級清洗區C和終極清洗區D，初級清洗區B上設置有初級供水管1和初級排廢管2，由初級供水管1向初級清洗區B內供給純水以對顯影后基板進行一級清洗，之后，初級清洗區B內被污染的渾濁水由初級排廢管2排出；一級清洗后基板被送往中級清洗區C，中級清洗區C上設置有中級供水管3和中級排廢管4，由中級供水管3向中級清洗區C內供水以對一級清洗后基板進行中級清洗，之后，中級清洗區C內被污染的渾濁水由中級排廢管4排出；中級清洗后基板被送往終級清洗區D，終級清洗區D上設置有終級供水管5和終級排廢管6，由終級供水管5向終級清洗區D內供純水以對中級清洗后基板進行終級清洗，之后，終級清洗區D內被污染的渾濁水由終級排廢管6排出。顯影后基板清洗的目的是除去其上的光刻膠和顯影液，初級清洗去除了基板上大部分的光刻膠和顯影液，中級清洗去除了剩余的一部分，最后通過終極清洗將光刻膠和顯影液完全清除，終極清洗為了保證基板的清潔度，必須使用純水，初級清洗和中級清洗對清洗用水的要求不局限于純水，所以為了節約用水，在中級清洗區C和終極清洗區D之間設置了第一集水池7，與終極排廢管6相連通，收集終極清洗區D排出的含有極少光刻膠和顯影液的廢水，該廢水作為循環水，由與第一集水池7相連通的中級供水管3將該循環水供給中級清洗區C。

但是，僅在中級清洗區C使用終極清洗區D排出的循環水對基板進行清洗，并沒有實現完全的節約用水，在初級清洗區B內依然使用純水對基板清洗，造成純水的過度浪費。

實用新型內容

（一）要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是與現有技術相比，如何實現顯影后基板清洗過程中的節約用水。

（二）技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型提供一種基板顯影后清洗裝置，包括依次鄰接的初級清洗區、中級清洗區和終極清洗區，顯影后基板依次經過初級清洗區、中級清洗區和終極清洗區進行清洗，每個清洗區設置有供水管和排廢管，所述中級清洗區和終極清洗區之間設置有第一集水池，終極清洗區的終極排廢管和中級清洗區的中級供水管分別與所述第一集水池相連，所述初級清洗區和中級清洗區之間設置有第二集水池，初級清洗區的初級供水管和中級清洗區的中級排廢管與所述第二集水池相連。

其中，所述第一集水池和第二集水池相連通，以將第二集水池內的循環水輸送至第一集水池。

其中，所述第一集水池和第二集水池鄰接設置，共用一塊側壁板，該共用側壁板上設置有第一溢流孔，所述第一集水池和第二集水池通過第一溢流孔連通。

其中，所述第二集水池上設置有第二溢流孔，所述第二溢流孔的高度低于所述第一溢流孔的高度。

其中，所述中級供水管上設置有動力泵，以將所述第一集水池內的循環水供給中級清洗區。

其中，所述初級供水管上設置有動力泵，以將所述第二集水池內的循環水供給初級清洗區。

（三）有益效果

上述技術方案所提供的基板顯影后清洗裝置，在第一集水池的基礎上增設了第二集水池，將中級清洗區用完的廢水收集，循環至初級清洗區進行再利用，在保證顯影后基板清洗效果的同時大幅節約用水；同時在第一集水池上設置第一溢流孔，將第一集水池內充足的循環水補至第二集水池利用，為防止倒流，在第二集水池上開設高度低于第一溢流孔的第二溢流孔，當第一集水池液位達到上限時自動溢流到第二集水池，第二集水池液位達到上限時自動排出，不需動力和人為控制，自動化能力強，易實現。

附圖說明

圖1是現有技術中基板顯影后清洗裝置的結構示意圖；