[實用新型]具有防塵結構的真空等離子腔室

有效

• 申請號: 201220424717.5
• 申請日: 2012-08-24
• 公開（公告）號: CN202796847U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 施露;邱勇;黃秀頎;鐘立華;習王峰
• 申請（專利權）人: 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 穆瑞丹

技術領域

本實用新型涉及一種可有效降低真空等離子體腔室，尤其是等離子體刻蝕腔室，因密封圈老化而引入的塵粒的腔體構造。

背景技術

真空等離子腔室在半導體及TFT行業應用非常普遍，設備包括成膜、刻蝕、干法剝離等裝置。真空腔室的構造普遍如下圖1所示。其中，真空腔室由上下兩個腔體組成，在下腔體腔壁的中間有一凹槽，在凹槽中有一密封圈，當上下兩個腔體壓合時，密封圈能起到很好的密封作用，如圖2所示。但是，當密封圈使用一段時間后（尤其在高溫或等離子體環境下），會產生較多塵粒。尤其當腔室從大氣狀態切換成真空狀態時，在瞬間壓力變化的作用下，老化的密封圈表面的塵粒非常容易進入腔室。如果不對該密封圈進行更換，密封圈老化產生的塵粒會進入工藝腔室中，在后續工藝過程中，該塵粒會掉落在基板上，導致工藝過程中的缺陷，如刻蝕殘留等等。要解決該問題，目前普遍的做法是更換新的密封圈。而此時，老化發塵的密封圈仍然能起到密封的作用。但如果一旦密封圈老化發塵則隨即更換新的密封圈會大大增加設備保養過程中所需要的備件并縮短設備保養維護的周期，最終在人力、時間、備件等各方面都增加設備保養維護的成本。

實用新型內容

為此，本實用新型所要解決的技術問題在于現有的真空等離子腔室密封圈老化形成的塵粒污染腔室內基板的問題，進而提供一種真空等離子體腔室的防塵結構。

為解決上述技術問題，本實用新型公開一種具有防塵結構的真空等離子腔室，其包括上腔室和下腔室，所述上腔室和所述下腔室之間通過設置于所述下腔室上端面的密封槽內的密封圈實現密封連接，所述下腔室的腔室內壁上可拆卸連接有擋板，所述下腔室或所述上腔室的腔室內壁上可拆卸連接有擋板，所述擋板的一部分板面貼合所述上腔室的內壁，一部分板面貼合所述下腔室的內壁。

上述真空等離子腔室中，所述擋板與所述上腔室和所述下腔室貼合的板面的粗糙度Ra大于50微米，其靠近腔室內的板面涂覆絕緣涂層。

上述真空等離子腔室中，所述擋板與所述下腔室之間通過螺釘實現螺紋連接，所述螺釘的靠近腔室內的頭部涂覆絕緣涂層。

上述真空等離子腔室中，所述下腔室與所述上腔室的內腔為方形結構，所述隔板的個數與所述下腔室/所述上腔室的邊數相同。

上述真空等離子腔室中，所述擋板與所述上腔室和所述下腔室貼合的板面涂覆粗糙度Ra大于50微米的鋁制磨砂涂層，其靠近工藝腔室內的板面涂覆Al₂O₃或/和Y₂O₃絕緣涂層。

本實用新型的上述技術方案相比現有技術具有以下優點：

本實用新型的真空等離子腔室在下腔室上可拆卸連接一個可以防塵的擋板，該擋板的一部分板面貼合所述上腔室的內壁，一部分板面貼合所述下腔室的內壁，這樣老化的密封圈產生的塵粒在外力作用下向腔室內側運動時，則能被該擋板擋住。其可以延長密封圈使用壽命，降低設備保養維護成本的情況下，減少或消除密封圈發塵對工藝良率的影響，減少工藝缺陷。

本實用新型的擋板與上腔室和下腔室貼合的板面的粗糙度Ra大于50微米，其可以加工成表面為凹凸不平的構造或者涂覆鋁制涂層，其靠近腔室內的板面涂覆絕緣涂層。這樣，密封圈產生的塵粒可以被吸附住。同時，該擋板相對于腔室可拆卸連接，當擋板吸附塵粒一定程度之后，可將擋板拆卸清洗塵粒。

附圖說明

為了使本實用新型的內容更容易被清楚的理解，下面根據本實用新型的具體實施例并結合附圖，對本實用新型作進一步詳細的說明，其中

圖1是真空等離子腔室的結構示意圖；

圖2是沿圖1虛線A處剖切的剖面圖；

圖3是本實用新型的真空等離子腔室的剖視圖。

圖中附圖標記表示為：

1-上腔室，2下腔室，21密封槽，3-密封圈，4-擋板，5-螺釘。

具體實施方式

圖3為本實用新型公開的一種具有防塵結構的真空等離子腔室，其包括上腔室1和下腔室2，所述上腔室1和所述下腔室2之間通過設置于所述下腔室2上端面的密封槽21內的密封圈3實現密封連接，所述下腔室2的腔室內壁上可拆卸連接有擋板4，所述擋板4的上端面高于所述下腔室4的上端面，其與所述上腔室1和所述下腔室2貼合的板面的粗糙度大于50微米，其靠近腔室內的板面涂覆絕緣涂層。

所述擋板4與所述下腔室2之間通過螺釘5實現螺紋連接，所述螺釘5的靠近腔室內的頭部涂覆絕緣涂層。

所述下腔室2與所述上腔室1的內腔為長方形，所述隔板4的個數與所述下腔室2/所述上腔室1的邊數相同。