[實(shí)用新型]一種磁瓦一出二模具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220416520.7
• 申請(qǐng)日: 2012-08-22
• 公開（公告）號(hào): CN202701377U
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬永軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 橫店集團(tuán)東磁股份有限公司
• 主分類號(hào): B22F3/03
• 分類號(hào): B22F3/03;B22F5/00;H01F41/02
• 代理公司: 杭州杭誠(chéng)專利事務(wù)所有限公司 33109
• 代理人: 尉偉敏

1.一種磁瓦一出二模具，包括下模座和下模座，其特征是，下模座內(nèi)設(shè)有凹模、下模座下部設(shè)有下凸模，上模座下部設(shè)有上凸模，凹模中間設(shè)置有兩個(gè)上下通透的瓦型內(nèi)腔,?兩個(gè)瓦型內(nèi)腔的內(nèi)弧具有相同的圓心，該圓心與兩個(gè)瓦型內(nèi)腔的外弧的圓心為同一個(gè)圓心；上凸模的凸模頭與瓦型內(nèi)腔適配，下凸模的凸模頭與瓦型內(nèi)腔適配。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁瓦一出二模具，其特征是，上凸模和下凸模都為階梯形結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種磁瓦一出二模具，其特征是，下凸模的凸模頭高度大于或等于凹模的高度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種磁瓦一出二模具，其特征是，凹模的瓦型內(nèi)腔上端部設(shè)有R0.1?mm的圓倒角。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種磁瓦一出二模具，其特征是，凹模的瓦形內(nèi)腔上端部設(shè)有導(dǎo)入倒角，導(dǎo)入倒角的深度B為1～1.5mm，傾斜角度C為與下模軸線成10°角。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種磁瓦一出二模具，其特征是，上凸模的凸模頭與凹模的瓦型內(nèi)腔配合間隙以及下凸模的凸模頭與凹模的瓦型內(nèi)腔配合間隙都為0.015～0.020mm。