[實用新型]真空蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201220403488.9
• 申請日: 2012-08-15
• 公開（公告）號: CN202786404U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 岡田利幸;藤本惠美子;大工博之
• 申請（專利權）人: 日立造船株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/14
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 李雪春;武玉琴

技術領域

本實用新型涉及真空蒸鍍裝置。特別涉及使用金屬蒸鍍材料的真空蒸鍍裝置。

背景技術

作為以往的真空蒸鍍裝置的示例，專利文獻1（日本專利公開公報特開平4-263064號）公開的真空蒸鍍裝置在底面中央部具有隆起部，該隆起部的內部具有空洞，而且在空洞的內部配置有加熱裝置。按照所述真空蒸鍍裝置，由于在中央部的隆起部附近溫度最高，所以可以使蒸鍍材料Al登上隆起部，可以提高熔融金屬的蒸鍍效率。

但是，由于這種以往的真空蒸鍍裝置僅具有加熱隆起部的加熱裝置，所以使金屬熔化并開始穩定蒸發需要花費時間，并且因長時間的加熱使得只有隆起部的附近局部產生高溫，可能會導致坩堝破損。

實用新型內容

為了解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種能形成均勻的蒸鍍膜的真空蒸鍍裝置。

本實用新型的真空蒸鍍裝置包括：真空蒸鍍用的坩堝，收容金屬蒸鍍材料；以及加熱裝置，使所述坩堝中收容的蒸鍍材料熔融并蒸發，所述坩堝內部的中央部具備柱狀的突出部，所述加熱裝置包括：主加熱器，從背面側加熱所述突出部；以及副加熱器，從外側加熱所述坩堝的內周面，利用所述主加熱器蒸發的蒸鍍材料的量多于利用所述副加熱器蒸發的蒸鍍材料的量。

根據本實用新型的真空蒸鍍裝置，利用主加熱器使蒸鍍材料主動地向突出部浸潤，可以使突出部成為主要的蒸鍍源，而且利用副加熱器維持蒸鍍材料的液相狀態。因此，利用加熱裝置的控制，能容易地控制蒸發量和蒸發方向，能夠使金屬蒸汽的放射分布穩定。所以，縮短了直到開始蒸發為止的時間，坩堝不會因局部加熱而破損，能形成均勻的蒸鍍膜。

附圖說明

圖1是表示第一實施方式的真空蒸鍍裝置的結構的圖。

圖2是表示圖1所示的真空蒸鍍裝置的坩堝和加熱裝置的內部結構的圖，（a）為上方立體圖，（b）為下方立體圖。

圖3是表示圖1所示的真空蒸鍍裝置的坩堝內部和加熱裝置的結構的圖。

圖4是表示第二實施方式的真空蒸鍍裝置的結構的圖。

圖5是表示圖4所示的真空蒸鍍裝置的坩堝和蓋體以及加熱裝置的內部結構的圖，（a）為上方立體圖，（b）為表示它們的內部結構的圖。

圖6是表示第一和第二實施方式的真空蒸鍍裝置的坩堝的突出部的變形例的圖，（a）表示突出部的頂點與坩堝的開口部邊緣一致的情況，（b）表示突出部的頂點低于坩堝的開口部邊緣的情況。

附圖標記說明

1、10??真空蒸鍍裝置

2??????真空蒸鍍室

3??????蒸鍍材料

31?????第一蒸發方向

32?????第二蒸發方向

33?????第三蒸發方向

4??????坩堝

41?????開口部

41a????開口部的邊緣

43?????內周面

44?????突出部

44a????突出部的頂部

45?????突出部的背面

47?????坩堝的外周面

5??????加熱裝置

51?????主加熱器

52?????副加熱器

53a????主加熱器的電阻發熱元件

53b????副加熱器的電阻發熱元件

8??????蓋體

81?????蓋體的孔部

r1?????開口部的內徑

r2?????蓋體的孔部的內徑

d??????間隙

具體實施方式

以下分別說明本實用新型的第一實施方式、第二實施方式和變形例。

（第一實施方式）

使用圖1～圖3說明本實用新型的第一實施方式的真空蒸鍍裝置1。真空蒸鍍裝置1包括：進行蒸鍍作業的真空蒸鍍室2；收容金屬蒸鍍材料3的真空蒸鍍用的坩堝4；以及使坩堝4中收容的蒸鍍材料3熔融并蒸發的加熱裝置5。具體如圖1所示，在真空蒸鍍裝置1中，基板6被水平保持在真空蒸鍍室2內，上表面具有開口部41的豎長的坩堝4配置在真空蒸鍍室2的外部，加熱裝置5配置在坩堝4的外部。加熱裝置5與電源裝置7電連接。用加熱裝置5加熱坩堝4，使蒸鍍材料3從位于基板6下方的坩堝4蒸發并升華，從而在基板6上對蒸鍍材料3進行蒸鍍、制膜。