[實用新型]真空蒸鍍裝置有效
| 申請號： | 201220403488.9 | 申請日： | 2012-08-15 |
| 公開（公告）號： | CN202786404U | 公開（公告）日： | 2013-03-13 |
| 發明（設計）人： | 岡田利幸;藤本惠美子;大工博之 | 申請（專利權）人： | 日立造船株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;武玉琴 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空蒸鍍裝置，包括：真空蒸鍍用的坩堝，收容金屬蒸鍍材料；以及加熱裝置，使所述坩堝中收容的蒸鍍材料熔融并蒸發，所述真空蒸鍍裝置的特征在于，
所述坩堝內部的中央部具備柱狀的突出部，
所述加熱裝置包括：主加熱器，從背面側加熱所述突出部；以及副加熱器，從外側加熱所述坩堝的內周面，
利用所述主加熱器蒸發的蒸鍍材料的量多于利用所述副加熱器蒸發的蒸鍍材料的量。
2.根據權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述突出部為沿鉛直方向延伸的錐狀體，所述突出部的頂部高于所述坩堝的開口部的邊緣。
3.根據權利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述突出部的頂部的前端形狀為球形。
4.根據權利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，
在所述坩堝的開口部上設置具有孔部的蓋體，所述孔部的內徑小于所述坩堝的開口部的內徑，
所述突出部的頂部插通并突出于所述蓋體的孔部，且在所述頂部的插通部分處，在所述頂部和所述蓋體之間形成有間隙。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日立造船株式會社，未經日立造船株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220403488.9/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：制備熱解氮化硼制品用的有多方位進氣口的氣相沉積爐
- 下一篇：一種煙化爐噴槍
- 同類專利
- 專利分類
