[實用新型]光刻機的預對準機構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220384644.1
• 申請日: 2012-08-03
• 公開（公告）號: CN202815412U
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發(fā)明（設計）人: 宣胤杰
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 李儀萍

技術(shù)領域

本實用新型涉及一種光刻機設備，特別是涉及一種光刻機的預對準機構(gòu)。

背景技術(shù)

隨著半導體技術(shù)的進步，集成電路的集成度越來越高，半導體器件的尺寸越來越小，因此制作過程中工藝上的細微失誤，將對成品率、器件性能、器件可靠性產(chǎn)生嚴重的影響。對于半導體器件而言，由于其極易受到多種污染物的損害，例如微粒、金屬離子、化學物質(zhì)、細菌，因此制作過程中必須對各種污染進行良好的控制。其中，金屬離子污染，以可移動離子污染(mobile?ionic?contaminants,?MICs)為主，其為存在于材料中的運動力很強的金屬原子且以離子形態(tài)出現(xiàn)。?

就半導體器件制作過程中的光刻工藝而言，在經(jīng)過晶圓表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘之后，需對所述晶圓進行對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等一系列工序，其中，在進行對準曝光時，又分為預對準及通過對準標志進行精確對準兩個步驟。

自對準曝光機作為制作過程中重要的生產(chǎn)用機臺，主要用于微影制程，一般而言，其與涂布顯影機（涂膠顯影機）共同使用，完成微影制程中最核心的圖像形成步驟。

在自對準曝光機的預對準過程中，用于固定晶圓且與其直接接觸的真空吸盤，是預對準工序中的重要部件。現(xiàn)有的真空吸盤多為金屬材質(zhì)，由于真空吸盤長期重復使用，很容易在不斷的接觸中造成晶圓的金屬離子污染。進一步，由于部分金屬材質(zhì)（如鐵）易磨損，從而造成真空吸盤的表面磨損，一方面，表面磨損的粉塵污染機臺，極易引起晶圓的金屬離子污染，并導致交叉污染，甚至生產(chǎn)停線，造成極大的風險；另一方面，表面磨損致使真空吸盤的表面平整度降低，導致晶圓無法正常固定于真空吸盤之上，影響預對準工序的正常實施。

實用新型內(nèi)容

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型的目的在于提供一種光刻機的預對準機構(gòu)，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中預對準機構(gòu)經(jīng)過長期使用易造成金屬離子污染、及真空吸盤固定晶圓效果不佳的問題。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種光刻機的預對準機構(gòu)，設置在所述光刻機中用于對邊緣具有缺口或平邊的晶圓進行預對準作業(yè)的預對準平臺上，所述預對準機構(gòu)至少包括：

旋轉(zhuǎn)臺，設置在所述預對準平臺上，包括具有一平整臺面的旋轉(zhuǎn)本體、以及穿設于所述旋轉(zhuǎn)本體的第一抽氣通孔；

真空吸盤，固定于所述旋轉(zhuǎn)臺上，包括具有上、下平整表面的塑料本體、以及穿設于所述塑料本體且對應所述第一抽氣通孔的第二抽氣通孔，所述塑料本體的下表面貼合于所述旋轉(zhuǎn)本體的平整臺面上，所述塑料本體的上表面開設有多個連通所述第二抽氣通孔的溝槽；以及

光學組件，包括設置在所述真空吸盤上側(cè)的光源發(fā)射端、以及設置在所述光源發(fā)射端的光源傳播路徑上且位于所述真空吸盤下側(cè)的光源接收端，所述光源接收端透過所述真空吸盤上晶圓邊緣的缺口或平邊感測到所述光源發(fā)射端發(fā)射的光線后使所述旋轉(zhuǎn)臺停止旋轉(zhuǎn)以預對準所述晶圓。

可選地，還包括設置在所述預對準平臺一側(cè)的機械手，夾持并移動所述晶圓將其放置于或移離所述真空吸盤。

可選地，所述塑料本體為聚醚醚酮材質(zhì)。

可選地，所述光源發(fā)射端為LED光源；所述光源接收端為CCD傳感器。

可選地，所述旋轉(zhuǎn)臺還包括開設于所述平整臺面上且具有內(nèi)螺紋的盲孔。

可選地，所述真空吸盤還包括穿設于所述塑料本體且對應所述盲孔的沉孔。

可選地，所述真空吸盤與旋轉(zhuǎn)臺通過穿設于所述沉孔并旋緊于所述盲孔中的緊固件固定。

可選地，所述第一抽氣通孔藉由一導管連通一抽真空裝置。

可選地，所述溝槽包括環(huán)繞所述第二抽氣通孔的多個環(huán)形溝槽、及連通各該環(huán)形溝槽和所述第二抽氣通孔的十字溝槽。

可選地，所述第二抽氣通孔位于所述塑料本體的中心；所述第一抽氣通孔位于所述旋轉(zhuǎn)本體的中心。

如上所述，本實用新型的光刻機的預對準機構(gòu)，具有以下有益效果：與現(xiàn)有技術(shù)的預對準機構(gòu)相比，本實用新型的光刻機的預對準機構(gòu)因采用了工程塑料作為真空吸盤，進而良好的控制了由于其自身造成的污染，確保了預對準機構(gòu)中真空吸盤的平整度，加強了所述真空吸盤對附于其上的晶圓的固定作用，為預對準工序的正常實施提供了保證。

附圖說明

圖1顯示為本實用新型的光刻機的預對準機構(gòu)在實施例中的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2顯示為本實用新型的光刻機的預對準機構(gòu)在實施例中的結(jié)構(gòu)分解示意圖。

圖3顯示為本實用新型的光刻機的預對準機構(gòu)真空吸盤的俯視示意圖。

元件標號說明