[實(shí)用新型]一種硅堆清洗熱氮干燥裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220374319.7
• 申請日: 2012-07-31
• 公開（公告）號: CN202719838U
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳許平;倪紹榮
• 申請（專利權(quán)）人: 南通皋鑫電子股份有限公司
• 主分類號: F26B7/00
• 分類號: F26B7/00
• 代理公司: 北京一格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11316
• 代理人: 滑春生

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種硅堆清洗熱氮干燥裝置，特別涉及一種可節(jié)降低氮?dú)庀牡墓瓒亚逑礋岬稍镅b置。

背景技術(shù)

硅堆也叫整流塊，就是把幾個二極管組成的整流電路一起封裝在樹脂中，形成的整流電路。?高壓硅堆由多只高壓整流二極管（硅粒）串聯(lián)組成，是高壓整流中將交流變成直流必不可少的原件。

硅堆在上膠前需要先進(jìn)行清洗，清洗后采用丙酮脫水，再通入高純冷氮?dú)膺M(jìn)行干燥。高純冷氮?dú)獾牧髁窟_(dá)到每分鐘400升左右，消耗較大，干燥成本高。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種可節(jié)降低氮?dú)庀牡墓瓒亚逑礋岬稍镅b置。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：一種硅堆清洗熱氮干燥裝置，其創(chuàng)新點(diǎn)在于：包括依次設(shè)置的清洗臺、丙酮脫水箱和氮?dú)飧稍锵洌龅獨(dú)飧稍锵渖显O(shè)置干燥蓋板，其特征在于：所述氮?dú)飧稍锵湓O(shè)氮?dú)膺M(jìn)、出口，氮?dú)飧稍锵鋬?nèi)還設(shè)置紅外線加熱燈管，所述紅外線加熱燈管均勻分布在氮?dú)飧稍锵涞膬蓚?cè)。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：硅片在經(jīng)過清洗后，置于丙酮脫水箱內(nèi)脫水，再放置到氮?dú)飧稍锵鋬?nèi)，蓋上干燥蓋板，通過冷氮?dú)馀c紅外線加熱燈管同時進(jìn)行干燥，冷氮?dú)獾牧鞯揽山档椭撩糠昼?00升左右，降低冷氮?dú)獾南摹?/p>

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型硅堆清洗熱氮干燥裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示，包括清洗臺1、丙酮脫水箱2、氮?dú)飧稍锵?、干燥蓋板4、氮?dú)膺M(jìn)口a、氮?dú)獬隹赽和紅外線加熱燈管5。

上述清洗臺1、丙酮脫水箱2、氮?dú)飧稍锵?依次設(shè)置，氮?dú)飧稍锵?上設(shè)置干燥蓋板4，氮?dú)飧稍锵?的前后側(cè)壁設(shè)置氮?dú)膺M(jìn)口a和氮?dú)獬隹赽。氮?dú)飧稍锵?的頂部兩內(nèi)側(cè)壁均勻設(shè)置若干紅外線加熱燈管5。

工作原理：硅片在經(jīng)過清洗后，置于丙酮脫水箱內(nèi)脫水，再放置到氮?dú)飧稍锵?內(nèi)，蓋上干燥蓋板4，通過冷氮?dú)馀c紅外線加熱燈管5同時進(jìn)行干燥，可相應(yīng)降低冷氮?dú)獾南摹?/p>