[實用新型]一種采用N型襯底的發光二極管有效
| 申請號: | 201220374252.7 | 申請日: | 2012-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN202797055U | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發明(設計)人: | 蔡建九;楊凱;林志偉;陳凱軒;林志園 | 申請(專利權)人: | 廈門乾照光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/22 | 分類號: | H01L33/22 |
| 代理公司: | 廈門市誠得知識產權代理事務所(普通合伙) 35209 | 代理人: | 方惠春 |
| 地址: | 361000 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 采用 襯底 發光二極管 | ||
技術領域
本實用新型涉及發光二極管外延結構。
背景技術
????目前,常用AIGaInP(鋁鎵銦磷)系發光二極管的外延結構為在N型GaAs襯底基礎上依次生長有N型GaAs(砷化鎵)緩沖層、布拉格反射層、N型下限制層、有源層、P型上限制層和P型電流擴展層。單一P型電流擴展層的結構,其上表面是平面狀,因此,當位于中間夾層的有源層發光時,除一部分光線出射于LED器件的外部,由于半導體材料相對于外部空氣而言為高折射率材料,當光線的出射角度大于一定臨界角時,另有大部分光線會產生全反射,致使光線的出射效果不佳;同時,全反射光在發光二極管體內會產生熱能,使得發光二極管整體溫度升高;既降低了產品的發光效率,又縮短了產品的使用壽命。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種采用N型襯底的發光二極管,可大幅提高發光二極管的外量子效率,發光效率高,使用壽命長。
為達到上述目的,本實用新型的技術方案是:一種采用N型襯底的發光二極管,包括N型GaAs襯底,在N型GaAs襯底上依次生長有N型GaAs緩沖層、布拉格反射層、N型下限制層、有源層、P型上限制層、P型電流擴展層、P型粗化層以及歐姆接觸層。
優選所述布拉格反射層由p-AlAs/p-A1xGa1-xAs或p-AlInP/p-(?AlxGa1-x?)yIn1-yP構成;所述p-AlAs/p-AlxGa1-xAs中,x為0~0.7;所述p-AlInP/p-(?AlxGa1-x)yIn?1-yP中,x為0.3~0.7?,?y為0.4~0.6。
優選所述N型下限制層由n-(AlxGa1-x)yIn1-yP構成,其中x為0.2~1,?y為0.4~0.6。
優選所述有源層由Undoped-(AlxGa1-x)yIn1-yP構成,其中x為0~0.3?,?y為0.4~0.6。
優選所述P型下限制層由p-(AlxGa1-x)yIn1-yP構成,其中x為0.2~1?,?y為0.4~0.6。
優選所述P型電流擴展層由p-AlxGa1-xAs構成,其中x為0~0.8,所述P型電流擴展層厚度為1~15um。所述的P型電流擴展層還可摻雜元素C、Mg、Zn中的一種或多種,其摻雜濃度為5e17~1e20。由p-AlxGa1-xAs構成的電流擴展層可避開p-(AlxGa1-x)yIn1-yP電導性差的問題,有效解決了AlGaInP系發光二極管的電流擴展問題。
優選所述P型粗化層由p-(AlxGa1-x)yIn1-yP構成,其中x為0.3~1,所述P型粗化層的厚度為0.3~5um。所述的P型粗化層也可摻雜元素C、Mg、Zn中的一種或多種,其摻雜濃度為1e17~1e20。由p-(AlxGa1-x)yIn1-yP構成的粗化層則可以大幅增加LED器件外量子效率,使原先發生全反射而無法出射的光,從外延層中重新提取出來,以提高其發光亮度。
優選所述歐姆接觸層由P++GaAs構成。
本實用新型由于在P型電流擴展層的上面增設P型粗化層,通過P型粗化層可以大幅增加LED器件有效出光面積,使原先發生全反射而無法射出的光,重新以不同角度射向LED器件的外部,等于將這些光從外延層中重新提取出來,極大的提高了AIGaInP系發光二極管的外量子效率,提高了發光效率。
另一方面,因原先發生全反射而無法射出的光,通過P型粗化層以不同角度重新射向LED器件的外部,減少此部分光線在LED器件內部產生熱量,降低LED器件內部的工作溫度,延長LED器件的使用壽命。
附圖說明
圖1是本實用新型結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和具體的實施方式對本實用新型作進一步詳細說明。
圖1所示,一種采用N型襯底的發光二極管,包括N型GaAs襯底1,在N型GaAs襯底1上依次生長有N型GaAs緩沖層2、布拉格反射層3、N型下限制層4、有源層5、P型上限制層6、P型電流擴展層7、P型粗化層8以及歐姆接觸層9。
優選所述布拉格反射層3由p-AlAs/p-A1xGa1-xAs或p-AlInP/p-(?AlxGa1-x?)yIn1-yP構成;所述p-AlAs/p-AlxGa1-xAs中,x為0~0.7;所述p-AlInP/p-(?AlxGa1-x)yIn?1-yP中,x為0.3~0.7?,?y為0.4~0.6。
優選所述N型下限制層4由n-(AlxGa1-x)yIn1-yP構成,其中x為0.2~1,?y為0.4~0.6。
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