[實用新型]一種空氣刀裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220364688.8
• 申請日: 2012-07-25
• 公開（公告）號: CN202705232U
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李登濤;侯智;吳代吾;楊子衡;梁亞東;李茜茜
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 李娟

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及液晶顯示面板生產(chǎn)加工技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種空氣刀裝置。

背景技術(shù)

隨著九十年代TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display，薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器)技術(shù)的成熟，液晶顯示面板由于其平板、輕薄、低功耗、多樣化、環(huán)保性等優(yōu)點得到迅速發(fā)展。隨著液晶顯示面板中玻璃基板的大型化，為保證產(chǎn)品的合格率，TFT-LCD的生產(chǎn)技術(shù)中各步工藝的均一性要求面臨著更大的挑戰(zhàn)。

其中，濕法刻蝕是TFT-LCD加工工藝中重要的一環(huán)，利用混合酸液對玻璃表面光刻膠未覆蓋的金屬進行刻蝕，從而形成所需要的金屬圖案。而在實際工藝過程中，刻蝕設(shè)備刻蝕反應(yīng)單元的出口處安裝有空氣刀裝置，空氣刀裝置用于截留刻蝕液，減少產(chǎn)品對刻蝕液的帶出量，降低生產(chǎn)成本；空氣刀裝置還可以用來對濕法刻蝕工藝中的清洗液進行截留等。

如圖1所示，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種空氣刀裝置的側(cè)視剖視截面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖1所示方位的空氣刀裝置主要包括具有板狀結(jié)構(gòu)的氣刀本體，氣刀本體有通過固定件4固定連接的第一板體1和第二板體2組成，第一板體1和第二板體2中相對的兩個面之間形成氣體腔室6，第一板體1和第二板體2的下端形成噴嘴部，如圖1中所示A區(qū)域，第一板體1上具有至少一個與氣體腔室6流體連通的氣體通入口3，且上述噴嘴部的下端具有一線縫隙狀的氣體噴射口5，氣體噴射口5與氣體腔室6流體連通；高壓氣體通過氣體通入口3通入氣體腔室6，并通過氣體噴射口5噴向玻璃基板，以對玻璃基板上的刻蝕液進行截留。

由于空氣刀裝置的第一板體1一般對應(yīng)的是刻蝕液及清洗液的噴淋單元，刻蝕液以及清洗液會濺落到第一板體1上，而氣體噴射口5位于氣刀本體的下端，且橫向延伸，濺落在第一板體1上的刻蝕液及清洗液的液滴匯聚形成的液流會流向氣刀本體的下端，并在氣體噴射口5處流下，氣體噴射口5處流下的液流會影響縫隙狀的氣體噴射口5噴射氣幕的均勻性，導(dǎo)致氣體噴射口5噴射的氣幕分叉不均，造成氣體噴射口5對玻璃基板上殘留的刻蝕液的截留不均勻，造成產(chǎn)品中由于殘留刻蝕液不均勻造成的各種不良，甚至造成產(chǎn)品直線不良區(qū)域的出現(xiàn)，嚴重影響了產(chǎn)品的質(zhì)量。

實用新型內(nèi)容

本實用新型提供一種空氣刀裝置，能夠降低液流對氣體噴射口形成的氣幕均勻性的影響，進而提高產(chǎn)品質(zhì)量。

為達到上述目的，本實用新型提供以下技術(shù)方案：

一種用于濕法刻蝕設(shè)備的空氣刀裝置，包括氣刀本體，所述氣刀本體包括固定連接、且相對的兩個面形成氣體腔室的第一板體和第二板體，所述第一板體和第二板體的一端形成具有一線氣體噴射口的噴嘴部，所述氣體噴射口與氣體腔室流體連通，所述第一板體具有與氣體腔室流體連通的至少一個氣體通入口;

所述第一板體背離所述氣體腔室的外表面形成用于將第一板體上匯聚的液體導(dǎo)離氣體噴射口對應(yīng)區(qū)域的至少一個導(dǎo)流槽，所述導(dǎo)流槽貫穿所述第一板體的長度方向。

優(yōu)選地，所述第二板體背離所述氣體腔室的外表面形成用于將第二板體上匯聚的液體導(dǎo)離氣體噴射口對應(yīng)區(qū)域的至少一個導(dǎo)流槽。

優(yōu)選地，第二板體背離所述氣體腔室的外表面具有兩個導(dǎo)流槽。

優(yōu)選地，所述第一板體和第二板體通過兩排緊固螺絲固定連接，每一個所述緊固螺絲由第二板體穿過與第一板體固定連接，且每一排所述固定螺絲在所述第二板體上的一個導(dǎo)流槽內(nèi)均勻分布。

優(yōu)選地，一個所述導(dǎo)流槽的兩個側(cè)壁中，靠近所述氣體噴射口的第一側(cè)壁與導(dǎo)流槽的槽底之間的夾角為銳角。

優(yōu)選地，至少一個所述導(dǎo)流槽的兩個側(cè)壁中，靠近所述氣體噴射口的第一側(cè)壁具有導(dǎo)流坡；沿所述導(dǎo)流坡的導(dǎo)流頂點指向?qū)Я鞯c的方向，所述導(dǎo)流坡的上游點距所述噴嘴部的端表面的距離，大于所述導(dǎo)流坡的下游點距所述噴嘴部的端表面的距離。

優(yōu)選地，所述第一側(cè)壁具有一個導(dǎo)流坡，所述導(dǎo)流坡的導(dǎo)流頂點為第一側(cè)壁的一端，所述導(dǎo)流坡的導(dǎo)流底點為第一側(cè)壁的另一端。

優(yōu)選地，所述第一側(cè)壁具有兩個導(dǎo)流坡，兩所述導(dǎo)流坡具有同一個導(dǎo)流頂點，一所述導(dǎo)流坡的導(dǎo)流底點為第一側(cè)壁的一端，另一所述導(dǎo)流坡的導(dǎo)流底點為第一側(cè)壁的另一端。

優(yōu)選地，所述氣體通入口為多個，且沿所述氣刀本體的長度方向均勻分布。

優(yōu)選地，所述第一板體與第二板體相對的兩個面之間具有密封墊片。