[實用新型]一種新型二極管器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220362905.X | 申請日: | 2012-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN203179899U | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王玨;蔡超峰;何敏 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州恩能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/861 | 分類號: | H01L29/861 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310027 浙江省杭州市文三*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 新型 二極管 器件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電力電子技術(shù)領(lǐng)域,涉及幾乎所有應(yīng)用場合下的電氣設(shè)備,包括交流電機、變頻器、開關(guān)電源、牽引傳動等領(lǐng)域的一種新型二極管器件。?
背景技術(shù)
作為重要的功率半導(dǎo)體器件,二極管器件主要包括基于PN結(jié)勢壘和肖特基勢壘兩種。PN結(jié)勢壘具有相對較高的勢壘高度,反向泄漏電流低,但正向?qū)▔航灯?,同時存在反向恢復(fù)電流的問題;而肖特基勢壘具有良好的正向特性,不存在反向恢復(fù)電流的問題,但是在承受高的反向電場時,會受到勢壘變低和隧穿效應(yīng)的影響,導(dǎo)致反向泄露電流大大增加,對器件長期工作的可靠性產(chǎn)生了影響。如何同時優(yōu)化并且平衡二極管器件的正反向特性是半導(dǎo)體器件設(shè)計的重要課題。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出了新的二極管結(jié)構(gòu),適用于所有半導(dǎo)體材料的二極管器件。其結(jié)構(gòu)特征,主要包括溝道和漂移區(qū)組成:溝道由鄰近的相應(yīng)類型的摻雜區(qū)構(gòu)成,同時形成所需的勢壘高度,通過歐姆接觸形成二極管一端;漂移區(qū)由半導(dǎo)體材料構(gòu)成,與溝道相連,并通過襯底和歐姆接觸獲得二極管另一端。?
相對于目前基于肖特基勢壘或者直接PN結(jié)勢壘的二極管,本發(fā)明提出的二極管結(jié)構(gòu)具有以下特點:?
1.明顯降低的泄漏電流。通過調(diào)節(jié)溝道摻雜和寬度,可以將反向泄漏電流明顯降低。?
2.可以調(diào)節(jié)的正向開啟電壓。隨著溝道寬度和摻雜的改變,開啟電壓可以得到調(diào)節(jié)并大大降低。?
3.良好的反向恢復(fù)特性。正向?qū)l件下為單極性工作,電流主要通過溝道流過,無明顯少子注入現(xiàn)象,因此具有和肖特基二極管一樣的無反向恢復(fù)電流的特點。?
4.無肖特基結(jié)的簡單結(jié)構(gòu)有利于器件在長期工作下的可靠性。?
附圖說明
圖1是發(fā)明基于摻雜直接注入的結(jié)構(gòu)截面圖;?
圖2是發(fā)明基于溝槽型P摻雜的結(jié)構(gòu)截面圖;?
圖3是發(fā)明基于僅垂直摻雜的溝槽結(jié)構(gòu)截面圖;?
圖4是發(fā)明基于傾斜型溝道的結(jié)構(gòu)截面圖;?
圖5是發(fā)明基于水平溝道的結(jié)構(gòu)截面圖;?
圖6是包含絕緣結(jié)構(gòu)的水平溝道結(jié)構(gòu)截面圖;?
圖7是N+/P+摻雜區(qū)域毗連的水平溝道截面圖;?
圖8是包含絕緣結(jié)構(gòu)的N+/P+摻雜毗連的水平溝道截面圖;?
圖9是與圖1結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的P型二極管例子的結(jié)構(gòu)示意圖。?
其中,?
1、溝道,第一半導(dǎo)體類型;?
2、重?fù)诫s區(qū),第二半導(dǎo)體類型;?
3、漂移區(qū),第一半導(dǎo)體類型;?
4、電場截止層,第一半導(dǎo)體類型;?
5、襯底,第一半導(dǎo)體類型;?
6、歐姆接觸層,第一半導(dǎo)體類型;?
7、陽極金屬;?
8、陰極金屬;?
9、橫向溝道表明摻雜區(qū),第二半導(dǎo)體類型;?
10、氧化物。?
具體實施方式
實施例1?
圖1為本發(fā)明的一種新型二極管器件的結(jié)構(gòu)截面圖,結(jié)合圖1予以詳細(xì)說明。如圖1所示,一種新型結(jié)構(gòu)的二極管器件,包括:襯底5,其上方為漂移區(qū)3;可以選擇是否在襯底層上方增加電場截止層4;導(dǎo)電溝道1位于漂移區(qū)3的上方,并處在兩塊相鄰的重?fù)诫s區(qū)2之間;陽極金屬7位于器件最上方表面,為器件引出電極;在溝道1和陽極金屬7之間為重?fù)诫s的歐姆接觸層6;陰極金屬8位于器件結(jié)構(gòu)的最下方,與襯底5相連,引出電極。?
在本例中,第一半導(dǎo)體類型為N型半導(dǎo)體導(dǎo)電材料,第二半導(dǎo)體類型為P型半導(dǎo)體材料,因此構(gòu)成N型二極管;其一種可能的制造工藝包括如下步驟:?
第一步,根據(jù)是否需要電場截止層4,決定在N型襯底5上方是否先生長產(chǎn)生形成截止層4;(可選)?
第二步,繼續(xù)向上外延生長分別獲得漂移區(qū)3,和對應(yīng)對于溝道濃度和長度的N型外延;?
第三步,直接在器件上表面利用離子注入或擴散方式在指定位置摻入P型摻雜形成P型重?fù)诫s區(qū)2,同時獲得夾在P型摻雜區(qū)之間的溝道1;?
第四步,在溝道1表面采用離子注入或擴散方式或外延方式或其他方式摻入?高濃度的N型摻雜,得到歐姆接觸層6;?
第五步,分別在器件上下表面淀積金屬,形成歐姆接觸,得到陽極金屬7和陰極金屬8,并引出電極,如圖1所示。?
實施例2?
圖2為本發(fā)明的一種新型二極管器件的結(jié)構(gòu)截面圖,結(jié)合圖2予以詳細(xì)說明。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于杭州恩能科技有限公司,未經(jīng)杭州恩能科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220362905.X/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種污染土壤的淋洗修復(fù)設(shè)備
- 下一篇:一種防竊電低壓計量柜
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





