[實(shí)用新型]一種薄膜濺射設(shè)備靶極冷卻銅背板冷卻裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220342577.7 | 申請日: | 2012-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN202730222U | 公開(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周文彬;劉幼海;劉吉人 | 申請(專利權(quán))人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
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| 地址: | 201707 上海市青*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 濺射 設(shè)備 冷卻 背板 裝置 | ||
所屬技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型關(guān)于屬于濺射設(shè)備靶極冷卻裝置,具體涉及一種薄膜濺射設(shè)備靶極冷卻銅背板冷卻裝置。?
背景技術(shù)
本實(shí)用新型系為一種薄膜濺射設(shè)備靶極冷卻銅背板冷卻裝置,薄膜設(shè)備靶極冷卻水循環(huán)系統(tǒng)是極為重要的一部分,負(fù)責(zé)將濺射等離子體靶材產(chǎn)生的高溫藉由冷卻銅背板內(nèi)的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)將熱源帶到冷卻系統(tǒng)后冷卻,使靶材能在等離子體轟擊下保持一定的溫度,否則靶材會(huì)因高溫融化或破裂而無法在進(jìn)行等離子體轟擊,導(dǎo)致無法沉積薄膜,如此一來就需要更換新的靶材或拆卸下進(jìn)行修復(fù),不僅耗費(fèi)成本也增加設(shè)備停機(jī)維修的時(shí)間。?
現(xiàn)有技術(shù)使用介質(zhì)設(shè)置于銅背板與靶極中間,使用間接冷卻的方式,藉由靶極內(nèi)部通入冷卻水循環(huán)方式產(chǎn)生冷源,而中間的介質(zhì)最為溫度的傳遞以冷卻銅背板上接合的靶材,然而現(xiàn)有技術(shù)的冷卻方式對于高功率的濺射模式下會(huì)有冷卻能力不足的現(xiàn)象,造成靶材落裂或是焊接脫落。?
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型主要目的系提供一種薄膜濺射設(shè)備靶極冷卻銅背板冷卻裝置,本實(shí)用新型采用的方案是;靶材置于銅背板下方并進(jìn)行焊接,使靶材背面緊密貼和在銅背板上,確保冷卻能順利進(jìn)行,不會(huì)因空隙產(chǎn)生多馀的熱阻,影響冷卻效果,銅背板正面設(shè)置水路系統(tǒng),包括一進(jìn)水口極一出水口,銅背板內(nèi)部設(shè)置5個(gè)水道且水道頭尾相通,使冷卻水能順利流通,各水道頭尾設(shè)置有長方形凹槽,能使水流加速,水道隔間條上設(shè)置有橡膠密封圈,使水道能照設(shè)置的流向前進(jìn),不會(huì)產(chǎn)生水壓及流速的損失,當(dāng)冷卻水由進(jìn)水口流入后,就順著水道前進(jìn),一直到出水口流出,其中接觸銅背板的時(shí)間及長度增加了冷卻能力,使靶極能充分冷卻,達(dá)到正常的工作溫度,同時(shí)也冷卻了靶材,使濺射設(shè)備保持持續(xù)的工作狀態(tài),減少維修的時(shí)間。?
附圖說明
圖1系為本實(shí)用新型之結(jié)構(gòu)示意圖。?
圖2系為本實(shí)用新型剖面示意圖。?
主要組件符號說明。?
11...銅背板主體。?
12...進(jìn)水口。?
13...水道。?
14...長方形凹槽。?
15...出水口。?
21...水道隔板。?
具體實(shí)施方式
為使方便簡捷了解本實(shí)用新型之其他特征內(nèi)容與優(yōu)點(diǎn)及其所達(dá)成之功效能夠更為顯現(xiàn),茲將本實(shí)用新型配合附圖詳細(xì)說明如下:請參閱圖1本實(shí)用新型之主要目的系提供一種薄膜濺射設(shè)備靶極冷卻銅背板冷卻裝置,是由銅背板主體11、進(jìn)水口12、水道13、長方形凹槽14及出水口15所組成,請參閱圖2所示,銅背板主體11設(shè)置有4個(gè)水道隔板21,當(dāng)冷卻水由進(jìn)水口12流入后,沿著被水道隔板21間隔出的水道13前進(jìn),途中經(jīng)過各水道頭尾相連的長方形凹槽14加速以保持冷卻水的流速,最后再由冷卻水由出水口15流出至外部冷卻水循環(huán)系統(tǒng)。?
所述的銅背板主體11厚度為25mm。?
????所述的水道13寬度為59mm。?
????所述的長方形凹槽14長為63mm,寬為43mm?
與現(xiàn)有技術(shù)相比,如此反復(fù)循環(huán)以確保靶極在工作中仍能維持一定溫度,濺鍍設(shè)備不會(huì)因高溫發(fā)生故障,減少設(shè)備停機(jī)造成的損失。
綜上所述,本實(shí)用新型在突破先前之技術(shù)結(jié)構(gòu)下,確實(shí)已達(dá)到所欲增進(jìn)之功效,且也非熟悉該項(xiàng)技藝者所易于思及,其所具之進(jìn)步性、實(shí)用性,顯已符合實(shí)用新型專利之申請要件,惟上列詳細(xì)說明系針對本實(shí)用新型之一可行實(shí)施例之具體說明,該實(shí)施例并非用以限制本實(shí)用新型之專利范圍,而凡未脫離本實(shí)用新型技藝精神所為之等效實(shí)施或變更,均應(yīng)包含于本案之專利范圍中。?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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