[實用新型]氣相沉積裝置有效
| 申請號: | 201220338482.8 | 申請日: | 2012-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN202808936U | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發明(設計)人: | 俆祥準;許明洙;金勝勛;金鎮壙;宋昇勇 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓明星 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉積 裝置 | ||
本申請要求于2011年7月13日在韓國知識產權局提交的第10-2011-0069489號韓國專利申請的優先權和權益,該申請的公開通過引用全部包含于此。
技術領域
本實用新型的多個方面涉及氣相沉積裝置和方法以及制造有機發光顯示裝置的方法。
背景技術
半導體器件、顯示裝置和其它電子器件包括多個薄膜。可根據各種方法來形成所述多個薄膜,方法之一為氣相沉積方法。
在氣相沉積方法中,使用至少一種氣體來形成薄膜。氣相沉積方法的示例包括化學氣相沉積(CVD)、原子層沉積(ALD)等。
與其它可比的顯示裝置比較而言,有機發光顯示裝置具有更大的視角、更好的對比度特性和更快的響應速度,因此已經作為下一代顯示裝置而受到關注。
有機發光顯示裝置包括中間層,該中間層包括彼此相對布置的第一電極和第二電極之間的有機發射層,有機發光顯示裝置還包括至少一個薄膜。可利用沉積工藝來形成有機發光顯示裝置中的薄膜。
隨著有機發光顯示裝置正朝向更大且具有更高的分辨率發展,難以沉積具有期望特性的大尺寸薄膜。而且,在提高用于形成這種薄膜的工藝的效率方面存在局限性。
實用新型內容
本實用新型的方面在于提出一種用于有效地執行沉積工藝以在基底上形成具有改善特性的薄膜的氣相沉積裝置和方法以及一種制造有機發光顯示裝置的方法。
根據本實用新型的實施例,提供了一種用于在基底上形成薄膜的氣相沉積裝置,所述氣相沉積裝置包括:室,具有排放口;架臺,設置在室內,并包括將基底設置在其上的安裝表面;注入部分,具有至少一個注入開口,通過所述至少一個注入開口沿與基底的將形成有薄膜的表面平行的方向注入氣體;等離子體發生器,設置成與基底分開并面向基底。
等離子體發生器可包括:供應部分,經供應部分注入反應氣體;第一等離子體電極;第二等離子體電極,與第一等離子體電極分開;出口。
在第一等離子體電極和第二等離子體電極之間可產生等離子體,并且可經等離子體發生器的出口向基底釋放等離子體。
等離子體發生器可包括多個模塊。所述多個模塊中的每個模塊可包括:供應部分,經供應部分注入反應氣體;第一等離子體電極;第二等離子體電極,與第一等離子體電極分開;出口。
等離子體發生器可被設置成與基底平行。
等離子體發生器可具有與基底的尺寸相同的尺寸以對應于基底,或者可比基底大。
所述氣相沉積裝置還可包具有孔的掩模,所述掩模用于將薄膜以期望的圖案沉積在基底上。掩模可設置在基底上。
架臺可包括多個安裝表面,所述多個基底將被分別設置在所述多個安裝表面上。
所述多個安裝表面可設置成相互平行。
所述多個安裝表面可分別位于架臺的第一表面和架臺的與第一表面相對的第二表面上。
多個等離子體發生器可被設置成與設置在所述多個安裝表面上的所述多個基底對應。
所述氣相沉積裝置還可包括用于驅動架臺和等離子體發生器的驅動器,驅動器被構造為使等離子體發生器和安裝在架臺上的基底在室內移動。
驅動器可使架臺和等離子體發生器移動,以使安裝在架臺上的基底沿與基底的將沉積有薄膜的表面垂直的方向移動。
驅動器做往復運動。
驅動器可使架臺和等離子體發生器并發地或同時地移動。
驅動器可包括用于使架臺移動的第一驅動器和用于使等離子體發生器移動的第二驅動器。
安裝表面可設置成與重力作用的方向平行。
注入部分可設置成比架臺遠離地面。
排放口可連接到泵。
注入部分的至少一個注入開口可以是注入源氣的出口。
注入部分的至少一個注入開口可以是經其將反應氣體提供到等離子體發生器的出口。
排放口可設置成比基底更靠近地面。
注入部分可包括多個注入孔,所述多個注入孔沿與基底的將沉積有薄膜的表面垂直的方向相互分開設置,從而可對基底執行若干次沉積工藝。
根據本實用新型的另一實施例,提供了一種用于在基底上形成薄膜的氣相沉積方法,所述氣相沉積方法包括:將基底安裝在設置在室內的架臺的安裝表面上;經注入部分沿與基底的將沉積有薄膜的表面平行的方向向基底和等離子體發生器之間的空間中注入源氣,等離子體發生器設置成面向基底;通過利用室的排放口執行排放工藝;通過利用等離子體發生器產生等離子體,并向基底釋放等離子體;通過利用室的排放口執行另一排放工藝。
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C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





