[實(shí)用新型]大氣壓等離子處理系統(tǒng)有效

申請?zhí)枺?/td>	201220335340.6	申請日：	2012-07-11
公開（公告）號：	CN203013672U	公開（公告）日：	2013-06-19
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	巖城范明	申請（專利權(quán)）人：	富士機(jī)械制造株式會(huì)社
主分類號：	H01J37/32	分類號：	H01J37/32
代理公司：	中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219	代理人：	穆德駿;謝麗娜
地址：	日本愛知***	國省代碼：	日本;JP
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	大氣壓等離子處理系統(tǒng)
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【權(quán)利要求書】：

1.一種大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，具備：?

多個(gè)腔室，排成一列地配置；?

一個(gè)以上腔室間連通路，各個(gè)腔室間連通路分別將所述多個(gè)腔室中的相鄰的兩個(gè)腔室連通；?

搬運(yùn)裝置，經(jīng)由所述一個(gè)以上腔室間連通路并通過所述多個(gè)腔室內(nèi)來搬運(yùn)被處理物；?

多個(gè)大氣壓等離子發(fā)生裝置，與所述多個(gè)腔室對應(yīng)設(shè)置，并且，各個(gè)大氣壓等離子發(fā)生裝置分別能夠在所述多個(gè)腔室中的與所述各個(gè)大氣壓等離子發(fā)生裝置本身對應(yīng)的腔室內(nèi)部在大氣壓下產(chǎn)生等離子體；及?

一個(gè)以上腔室間分隔裝置，與所述一個(gè)以上腔室間連通路對應(yīng)設(shè)置，并且，各個(gè)腔室間分隔裝置分別噴出氣體以遮斷所述一個(gè)以上腔室間連通路中的與所述各個(gè)腔室間分隔裝置本身對應(yīng)的腔室間連通路，利用所噴出的氣流將相鄰的兩個(gè)腔室之間隔開；?

在所述多個(gè)腔室內(nèi)依次對由所述搬運(yùn)裝置搬運(yùn)的被處理物實(shí)施等離子處理。?

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

所述多個(gè)腔室內(nèi)的氣壓被設(shè)定為相同。?

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

所述多個(gè)腔室內(nèi)的氣壓被設(shè)定為正壓。?

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

所述多個(gè)腔室內(nèi)的氣壓被設(shè)定為正壓。?

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

所述多個(gè)腔室中的配置在兩端的兩個(gè)腔室分別具有用于供所述搬運(yùn)裝置搬出或搬入被處理物的搬出搬入口，且，所述搬出搬入口向大氣開口，?

所述大氣壓等離子處理系統(tǒng)具備兩個(gè)腔室大氣間分隔裝置，?

所述兩個(gè)腔室大氣間分隔裝置與所述配置在兩端的兩個(gè)腔室對應(yīng)設(shè)置，并且，各個(gè)腔室大氣間分隔裝置分別噴出氣體以遮斷所述搬出搬入口，利用所噴出的氣流將與所述各個(gè)腔室大氣間分隔裝置本身對應(yīng)的腔室和大氣之間隔開。?

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

所述兩個(gè)腔室大氣間分隔裝置各自的每單位時(shí)間的噴出量比所述一個(gè)以上腔室間分隔裝置各自的每單位時(shí)間的噴出量多。?

7.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

所述一個(gè)以上腔室間連通路在被處理物的搬運(yùn)方向上的長度比能夠利用所述大氣壓等離子處理系統(tǒng)處理的最大被處理物在所述搬運(yùn)方向上的長度長。?

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?

10.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的大氣壓等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，?