[實用新型]大氣壓等離子處理系統

有效

• 申請號: 201220335340.6
• 申請日: 2012-07-11
• 公開（公告）號: CN203013672U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 巖城范明
• 申請（專利權）人: 富士機械制造株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 穆德駿;謝麗娜

1.一種大氣壓等離子處理系統，其特征在于，具備：?

多個腔室，排成一列地配置；?

一個以上腔室間連通路，各個腔室間連通路分別將所述多個腔室中的相鄰的兩個腔室連通；?

搬運裝置，經由所述一個以上腔室間連通路并通過所述多個腔室內來搬運被處理物；?

多個大氣壓等離子發生裝置，與所述多個腔室對應設置，并且，各個大氣壓等離子發生裝置分別能夠在所述多個腔室中的與所述各個大氣壓等離子發生裝置本身對應的腔室內部在大氣壓下產生等離子體；及?

一個以上腔室間分隔裝置，與所述一個以上腔室間連通路對應設置，并且，各個腔室間分隔裝置分別噴出氣體以遮斷所述一個以上腔室間連通路中的與所述各個腔室間分隔裝置本身對應的腔室間連通路，利用所噴出的氣流將相鄰的兩個腔室之間隔開；?

在所述多個腔室內依次對由所述搬運裝置搬運的被處理物實施等離子處理。?

2.根據權利要求1所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述多個腔室內的氣壓被設定為相同。?

3.根據權利要求1所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述多個腔室內的氣壓被設定為正壓。?

4.根據權利要求2所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述多個腔室內的氣壓被設定為正壓。?

5.根據權利要求1～4中任一項所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述多個腔室中的配置在兩端的兩個腔室分別具有用于供所述搬運裝置搬出或搬入被處理物的搬出搬入口，且，所述搬出搬入口向大氣開口，?

所述大氣壓等離子處理系統具備兩個腔室大氣間分隔裝置，?

所述兩個腔室大氣間分隔裝置與所述配置在兩端的兩個腔室對應設置，并且，各個腔室大氣間分隔裝置分別噴出氣體以遮斷所述搬出搬入口，利用所噴出的氣流將與所述各個腔室大氣間分隔裝置本身對應的腔室和大氣之間隔開。?

6.根據權利要求5所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述兩個腔室大氣間分隔裝置各自的每單位時間的噴出量比所述一個以上腔室間分隔裝置各自的每單位時間的噴出量多。?

7.根據權利要求1～4中任一項所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間連通路在被處理物的搬運方向上的長度比能夠利用所述大氣壓等離子處理系統處理的最大被處理物在所述搬運方向上的長度長。?

8.根據權利要求5所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間連通路在被處理物的搬運方向上的長度比能夠利用所述大氣壓等離子處理系統處理的最大被處理物在所述搬運方向上的長度長。?

9.根據權利要求6所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間連通路在被處理物的搬運方向上的長度比能夠利用所述大氣壓等離子處理系統處理的最大被處理物在所述搬運方向上的長度長。?

10.根據權利要求1～4中任一項所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間分隔裝置分別形成向與被處理物的搬運方向垂直且水平的方向噴出氣體的結構。?

11.根據權利要求5所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間分隔裝置分別形成向與被處理物的搬運方向垂直且水平的方向噴出氣體的結構。?

12.根據權利要求6所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間分隔裝置分別形成向與被處理物的搬運方向垂直且水平的方向噴出氣體的結構。?

13.根據權利要求7所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間分隔裝置分別形成向與被處理物的搬運方向垂直且水平的方向噴出氣體的結構。?

14.根據權利要求8所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間分隔裝置分別形成向與被處理物的搬運方向垂直且水平的方向噴出氣體的結構。?

15.根據權利要求9所述的大氣壓等離子處理系統，其特征在于，?

所述一個以上腔室間分隔裝置分別形成向與被處理物的搬運方向垂直且水平的方向噴出氣體的結構。?