[實(shí)用新型]壓控振蕩器的偏置電路有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220325352.0 | 申請日: | 2012-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN202663357U | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盛懷茂;陳敏強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 漢凌微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H03B5/32 | 分類號: | H03B5/32;G05F3/26 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 王江富 |
| 地址: | 201203 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓控振蕩器 偏置 電路 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體集成電路,特別是涉及一種壓控振蕩器的偏置電路。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的不斷進(jìn)步,現(xiàn)代通信技術(shù)數(shù)據(jù)傳輸速度也越來越快,從而對通信系統(tǒng)的技術(shù)參數(shù)要求也越來越高。低噪聲壓控振蕩器(VCO)是現(xiàn)代通信系統(tǒng)中不可或缺的電路,其中LC壓控振蕩器依其優(yōu)越的低噪聲性能被普遍應(yīng)用于各種通信系統(tǒng)中。
LC壓控振蕩器的噪聲源包括偏置電路噪聲、開關(guān)管噪聲以及諧振器的損耗。除了優(yōu)化壓控振蕩器本身的噪聲性能以外,目前已經(jīng)有多種方法來減小由偏置電路帶來的噪聲,其中一種方法就是用低通濾波器來濾除偏置電路的噪聲。現(xiàn)有偏置電路的低通濾波器一般由電阻(R)和電容(C)構(gòu)成。
一種現(xiàn)有壓控振蕩器的偏置電路的電路如圖1所示,包括帶隙基準(zhǔn)電流源(Bandgap?Circuit)、第一組電流鏡和第二組電流鏡。所述第一組電流鏡和所述第二組電流鏡分別包括基準(zhǔn)電流路徑和鏡像電流路徑。
所述第一組電流鏡的基準(zhǔn)電流路徑由第一MOS管M1組成,鏡像電流路徑由第二MOS管M2組成,所述第一MOS管M1和所述第二MOS管M2為等比例NMOS管。所述第一MOS管M1的柵極、漏極和所述第二MOS管M2柵極相連并都和所述帶隙基準(zhǔn)電流源相連,所述第一MOS管M1的源極和所述第二MOS管M2的源極相連并都接地。
所述第二組電流鏡的基準(zhǔn)電流路徑由第三MOS管M3組成,鏡像電流路徑由第四MOS管M4組成,所述為三MOS管M3和所述第四MOS管M4為等比例PMOS管。所述第二組電流鏡還包括一低通濾波器,所述低通濾波器包括電阻R和第七M(jìn)OS管M7,所述第七M(jìn)OS管M7為PMOS管且所述第七M(jìn)OS管M7的源漏連接形成一PMOS管電容。所述第三MOS管M3的漏極、柵極和所述電阻R的一端相連并和所述第二MOS管M2的漏極相連;所述第四MOS管M4的柵極、所述第七M(jìn)OS管M7的柵極和所述電阻R的另一端相連;所述第七M(jìn)OS管M7的源極、漏極和所述第三MOS管M3的源極、所述第四MOS管M4的源極相連并都接電源電壓VDD;所述第四MOS管M4的漏極接壓控振蕩器。
工作時(shí),所述帶隙基準(zhǔn)電流源為所述第一組電流鏡的基準(zhǔn)電流路徑提供第一基準(zhǔn)電流I0,在所述第一組電流鏡的鏡像電流路徑和所述第二組電流鏡的基準(zhǔn)電流路徑中流過第一偏置電流I1,在所述第二組電流鏡的鏡像電流路徑中流過第二偏置電流I2,所述第二偏置電流I2提供給所述壓控振蕩器工作。其中所述第一偏置電流I1為所述第一基準(zhǔn)電流I0的鏡像電流,所述第二偏置電流I2為所述第一偏置電流I1的鏡像電流。所述電阻R和由所述第七M(jìn)OS管M7形成的PMOS管電容形成電阻電容(RC)低通濾波器,在所述第一偏置電流I1和所述第二偏置電流I2間濾除所述第一基準(zhǔn)電流I0中的噪聲,即濾除所述帶隙基準(zhǔn)電流源產(chǎn)生的噪聲。
由于壓控振蕩器的偏置電路中的噪聲多為低頻噪聲,要濾除該噪聲,低通濾波器的拐點(diǎn)頻率也要很低,也就是所述電阻電容(RC)低通濾波器的電阻、電容的時(shí)間常數(shù)要很大,這需要所述低通濾波器的電阻、電容的取值至少有一個(gè)比較大,在集成電路上實(shí)現(xiàn)大電阻或大電容則會占用相當(dāng)大的晶片面積,成本較高,一般采用片外濾波電容。現(xiàn)有技術(shù)中的所述低通濾波器的電阻一般采用阱(well)電阻和多晶硅(Poly)電阻,阱電阻和多晶硅電阻都會占用較大的面積。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種壓控振蕩器的偏置電路,能減小器件的尺寸。
為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供的壓控振蕩器的偏置電路,偏置電路包括第一組電流鏡、第二組電流鏡;
所述第一組電流鏡包括第一MOS管、第二MOS管,第一MOS管、第二MOS管為類型相同的晶體管;所述第二組電流鏡包括第三MOS管、第四MOS管,第三MOS管、第四MOS管為與第一MOS管、第二MOS管類型相反的晶體管;所述第一MOS管的柵極、漏極及所述第二MOS管的柵極接基準(zhǔn)電流源,所述第一MOS管的源極和所述第二MOS管的源極接地;
所述第二組電流鏡還包括第五MOS管、第六MOS管和第七M(jìn)OS管,所述第五MOS管、第六MOS管、第七M(jìn)OS管為與第一MOS管、第二MOS管類型相反的晶體管;
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