[實用新型]一種晶硅太陽能電池鍍膜用硅片承載裝置

有效

• 申請號: 201220323271.7
• 申請日: 2012-07-05
• 公開（公告）號: CN202796885U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 范維濤;勾憲芳;高冠宇;陳呈;姜利凱;王鵬
• 申請（專利權）人: 中節能太陽能科技有限公司
• 主分類號: H01L21/673
• 分類號: H01L21/673;C23C16/458
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 繆友菊

技術領域

本實用新型涉及一種晶硅太陽能電池鍍膜用硅片承載裝置。?

背景技術

目前，在晶體硅太陽能電池片的制備工藝中，PECVD（等離子增強化學氣相沉積）制備減反射膜已成為必不可少的工序。這層減反射膜不僅能減少硅片表面的光反射，增加光吸收，而且又有良好的表面鈍化和體鈍化的重要作用。因此，良好的減反射膜不僅是電池片各電性能參數的重要保證，也是電池片檢驗、等級劃分的重要標準。?

現有的PECVD鍍膜設備，都需要特定的硅片承載裝置，如德國Roth&Rau?PECVD設備所用的硅片承載裝置為石墨框。硅片在鍍膜過程中，需要水平放置在石墨框的方格孔內，同時為了防止在鍍膜過程中硅片從孔內滑落，在方格孔兩邊的格條上設有硅片的承載裝置，目前普遍采用掛鉤結構，方格孔內所有的掛鉤末端的支撐點都在同一高度平面內。在鍍膜過程中，等離子體從石墨框的下面向上噴出，由于“J”形掛鉤與方格孔間隙的影響，等離子體會從間隙處到達硅片的反面從而形成反鍍膜，影響后續鋁背場印刷，導致邊緣背場脫離，無法形成良好的硅鋁接觸，影響電池效率。另一方面，等離子體從石墨框下面噴出，由于掛鉤的阻擋，掛鉤存在的區域會造成鍍膜不良，直接影響鍍膜效果，進而影響到太陽能電池片表面減反射膜的質量。?

發明內容

實用新型目的：本實用新型的目的在于針對現有技術的不足，提供一種太陽能電池鍍膜用硅片承載裝置，同時解決上述兩個問題。?

技術方案：本實用新型所述的晶硅太陽能電池鍍膜用硅片承載裝置，包括長方形石墨框和螺絲承載圓盤；螺絲承載圓盤包括圓柱形連接柱和連接于連接柱一端的承載盤，連接柱圓周外表面設有螺紋，承載盤為圓臺形狀且圓臺較大底面位于螺絲承載圓盤外側，承載盤圓臺母線與軸線的夾角為20°～70°；石墨框內設有矩形陣列分布的正方形硅片倉，硅片倉尺寸與待加工硅片尺寸相同，所述正方形硅片倉四周的石墨框上均設有對稱分布的連接孔，連接孔內壁設有與連接柱配合使用的螺紋，螺絲承載圓盤通過連接孔裝配于石墨框下側，螺絲承載圓盤下端面位于同一平面并且高度可以調節。?

進一步的，石墨框上相鄰兩個正方形硅片倉之間連接板寬度為8mm，連接柱直徑為3mm，承載盤底面直徑大于上述連接板寬度，便于對兩側的硅片都起支撐作用。?

有益效果：（1）通過設置圓臺形螺絲承載圓盤，使承載盤與硅片邊緣形成點接觸，不會形成鍍膜不良區域，有效的解決了掛鉤點問題，提升成膜質量；（2）通過螺絲承載圓盤與石墨框的螺旋活動連接，可以調整硅片高低位，有效解決了反面鍍膜問題，形成良好鋁背場，并且可手動取下螺絲承載圓盤，維護清理方便，可循環利用，節約成本。?

附圖說明

圖1為本實用新型俯視圖；?

圖2為圖1的A-A剖視圖；

圖3為本實用新型螺絲承載圓盤主視圖。

具體實施方式

下面對本實用新型技術方案進行詳細說明，但是本實用新型的保護范圍不局限于所述實施例。?

實施例：本實用新型晶硅太陽能電池鍍膜用硅片承載裝置，包括長方形石墨框1和螺絲承載圓盤2；螺絲承載圓盤2包括圓柱形連接柱21和連接于連接柱21一端的承載盤22，連接柱21圓周外表面設有螺紋，承載盤22為圓臺形狀且圓臺較大底面位于螺絲承載圓盤2外側，承載盤22圓臺母線與軸線的夾角為20°～70°；石墨框1內設有矩形陣列分布的正方形硅片倉12，硅片倉12尺寸與待加工硅片3尺寸相同，所述正方形硅片倉12四周的石墨框上均設有對稱分布的連接孔11，連接孔11內壁設有與連接柱21配合使用的螺紋，螺絲承載圓盤2通過連接孔11裝配于石墨框1下側，螺絲承載圓盤2下端面位于同一平面并且高度可以調節。?

進一步的，石墨框1上相鄰兩個硅片倉12之間連接板寬度為8mm，連接柱21直徑為3mm，承載盤22底面直徑大于上述連接板寬度。?

具體使用時，先將螺絲承載圓盤2裝配于連接孔11內，并保證承載盤22下底面位于同一平面，再將待加工的硅片3放入硅片倉12內進行鍍膜加工。?

如上所述，盡管參照特定的優選實施例已經表示和表述了本實用新型，但其不得解釋為對本實用新型自身的限制。在不脫離所附權利要求定義的本實用新型的精神和范圍前提下，可對其在形式上和細節上作出各種變化。?