[實用新型]一種接觸式曝光掩膜版

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220316234.3
• 申請日: 2012-07-03
• 公開（公告）號: CN203164592U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 信恩龍;李喜峰;張建華
• 申請（專利權(quán)）人: 上海大學(xué)
• 主分類號: G03F1/40
• 分類號: G03F1/40
• 代理公司: 上海上大專利事務(wù)所(普通合伙) 31205
• 代理人: 何文欣

1.一種接觸式曝光掩膜版，包括一塊蘇打玻璃或石英玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基板的上面鍍有金屬鉻薄膜，光刻工藝得到鉻薄膜圖案，鉻薄膜圖案上覆一層導(dǎo)電膜。

2.如權(quán)利要求1所述的接觸式曝光掩膜版，其特征在于所述玻璃基板是正方形，邊長為200mm，厚度3-8mm。

3.如權(quán)利要求1所述的接觸式曝光掩膜版，其特征在于所述鉻薄膜是濺射或沉積在玻璃基板上的，厚度為100-200nm。

4.如權(quán)利要求1所述的接觸式曝光掩膜版，其特征在于：所述導(dǎo)電膜為透明導(dǎo)電膜，該透明導(dǎo)電膜為透明銦錫金屬氧化物ITO薄膜，透明導(dǎo)電膜是正方形，邊長為200mm，厚度為50-100nm。