[實用新型]一種用于直拉硅單晶爐的塊狀多晶硅加料裝置有效
| 申請號: | 201220272138.3 | 申請日: | 2012-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN202671709U | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發明(設計)人: | 曾澤斌 | 申請(專利權)人: | 曾澤斌 |
| 主分類號: | C30B15/02 | 分類號: | C30B15/02;C30B29/06 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 張法高 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 直拉硅單晶爐 塊狀 多晶 加料 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種用于直拉硅單晶爐的塊狀多晶硅加料裝置。
背景技術
制造硅單晶主要采用直拉法(Czochralski法),硅單晶的生長在直拉硅單晶爐內完成。使用現在常用的直拉硅單晶爐生長硅單晶時為了降低能耗、提高單爐產量和質量普遍使用再加料技術,具體的操作方法是:先將所用坩堝內裝滿塊狀或顆粒狀多晶硅,再經抽真空、多晶硅融化,熔體溫度穩定、晶種和熔體熔接、細頸生長、肩部生長、等徑生長、收尾等步驟生長出第一根硅單晶,坩堝內剩余約1/3的硅熔體,硅單晶以設定的拉速被提拉進入副爐室的同時被冷卻到200-300oC?,在硅單晶上升冷卻過程中,從設置在爐蓋一側的加料倉中將顆粒多晶硅料補充到石英坩堝內,開始第二個多晶硅融化過程,當硅單晶的溫度冷卻到設定值后,取出單晶,當加入的多晶硅完全融化后,開始第二根硅單晶的生長過程。重復前面的過程可以使用一個石英坩堝生長5-10根硅單晶。
現在常用的直拉硅單晶爐在使用時,多晶硅的加入、多晶硅的熔化、硅單晶的生長,是按先后順序在同一個坩堝內完成的。現在已經出現了一種硅熔體連續加注的直拉硅單晶爐,晶體生長在石英坩堝內完成,多晶硅的熔化在專設的熔化區內完成,在硅單晶生長的同時顆粒多晶硅從加料倉中被加入到多晶硅熔化區,在熔化區被轉化成硅熔體后被連續補充到硅單晶生長的石英坩堝內。
兩種直拉硅單晶爐都要用到多晶硅加料倉,目前見到的多晶硅加料倉都只能向單晶爐內加注顆粒多晶硅,不能加注塊狀多晶硅。顆粒多晶硅的尺寸為直徑小于5mm的球體。
發明內容
本實用新型的目的是克服現有技術的不足,提供一種用于直拉硅單晶爐的塊狀多晶硅加料裝置。
一種用于直拉硅單晶爐的塊狀多晶硅加料裝置:從上到下順次設有倉蓋、倉體、翻板閥體,倉蓋上方從左到右順次設有擋料球升降組件、導料管升降組件、加料口,擋料球升降組件從上到下順次設有電機、減速機、固定架、導向滑桿、絲桿、波紋管提升件、波紋管、提升桿,電機、減速機、導向滑桿、絲桿安裝在固定架上,波紋管提升件通過內螺紋連接在絲桿上并可沿導向滑桿上下滑動,波紋管、提升桿安裝在波紋管提升件的下方,導料管升降組件從上到下順次設有電機、減速機、固定架、導向滑桿、絲桿、波紋管提升件、波紋管、提升桿,電機、減速機、導向滑桿、絲桿安裝在固定架上,波紋管提升件通過內螺紋連接在絲桿上并可沿導向滑桿上下滑動,波紋管、提升桿安裝在波紋管提升件的下方,倉體上部內從外到內順次設有石英玻璃內套、擋料球、擋料球升降桿、導料管升降桿,倉體下部內設有導料管,導料管通過導料管掛鉤懸掛在導料管升降桿的下端,導料管掛鉤由內環、拉桿、固定螺釘、環形托構成,環形托的底部形狀為圓環形并與導料管的底部緊密相連,導料管升降桿穿過內環安裝,倉體下部外側壁上設有真空抽氣口、真空閥、觀測窗、進氣口,翻板閥體包括密封圈、隔離板、磁流體密封件、搖桿,翻板閥體底部設有密封圈,翻板閥體的下端設有下法蘭,翻板閥體外側壁設有磁流體密封件、搖桿,搖桿通過磁流體密封件與隔離板相連。
所述的石英玻璃內套上段為圓柱體,圓柱體內徑D1為400-800mm,石英玻璃內套中段為圓錐體,圓錐體的半角α1為15-45o,倉體?上段圓柱體部分和中段圓錐體部分的總高度H與D1的比為1.2-2:1,擋料球的直徑D2為110-200mm,擋料球沿直徑方向開有通孔,通孔直徑D3為15-25mm,石英玻璃內套下段圓柱體的高度H1與導料管的高度h3之比約為1:1,石英玻璃內套下段圓柱體的高度H1與翻板閥體的高度H2?之比為1-1.5:1,石英玻璃內套下段圓柱體內徑D4為100-160mm,隔離板的直徑D5為140-200mm,密封圈的內徑為130-190mm,石英玻璃內套的壁厚為5-10mm。
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