[實用新型]磁控濺射靶材

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220226070.5
• 申請日: 2012-05-18
• 公開（公告）號: CN202576553U
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學(xué)澤;鐘偉華
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種磁控濺射靶材，其特征在于，所述磁控濺射靶材具有濺射面，所述濺射面具有磁場強(qiáng)度設(shè)計輪廓，且所述濺射面向磁控濺射靶材的中心凹陷。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射靶材，其特征在于，所述磁場強(qiáng)度設(shè)計輪廓為波浪形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射靶材，其特征在于，所述磁控濺射靶材為圓形靶材。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁控濺射靶材，其特征在于，所述磁控濺射靶材的濺射面關(guān)于所述磁控濺射靶材的中心對稱。