[實(shí)用新型]真空腔

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220201550.6
• 申請(qǐng)日: 2012-05-07
• 公開（公告）號(hào): CN202633249U
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樸宇鐘;樸希偵
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 麗佳達(dá)普株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

1.一種真空腔，其包括：

外殼，具有用于收容或移送被處理體的空間；

排氣槽，形成在所述外殼的內(nèi)側(cè)面上；

排氣孔，形成在所述排氣槽的一面上，并貫穿所述外殼；以及

排氣泵，與所述排氣孔連接，用于排出所述外殼內(nèi)部的氣體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的截面積大于所述排氣孔的截面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔與所述排氣槽形成臺(tái)階。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的外輪廓形成為圓形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的外輪廓形成為多邊形。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的外輪廓形成為矩形。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，所述排氣槽具有：

主槽以及從所述主槽的一側(cè)向所述外殼的內(nèi)側(cè)方向延伸形成的突出槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空腔，其特征在于，

所述突出槽的寬度小于所述主槽的寬度，所述突出槽與所述主槽形成臺(tái)階。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

所述突出槽的外輪廓形成為矩形。

10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

所述突出槽的一側(cè)的外輪廓形成為圓弧形。

11.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

在所述外殼內(nèi)的所述空間中具有用于支承所述被處理體的工作臺(tái)，所述突出槽的至少一部分位于所述工作臺(tái)的下部。

12.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

在所述外殼內(nèi)的所述空間中具有用于支承所述被處理體的工作臺(tái)，所述突出槽位于所述工作臺(tái)下部的外側(cè)。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔的外輪廓形成為圓形。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔的外輪廓形成為多邊形。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔的外輪廓形成為矩形。

16.一種真空腔，其包括：

外殼，具有用于收容或移送被處理體的空間；

排氣部，在所述外殼的一面上貫穿形成，內(nèi)側(cè)面折曲形成為具有規(guī)定級(jí)差的多級(jí)臺(tái)階；

排氣泵，與所述排氣部連接，用于排出所述外殼內(nèi)部的氣體。