[實用新型]真空腔

有效

• 申請號: 201220201550.6
• 申請日: 2012-05-07
• 公開（公告）號: CN202633249U
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 樸宇鐘;樸希偵
• 申請（專利權）人: 麗佳達普株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

1.一種真空腔，其包括：

外殼，具有用于收容或移送被處理體的空間；

排氣槽，形成在所述外殼的內側面上；

排氣孔，形成在所述排氣槽的一面上，并貫穿所述外殼；以及

排氣泵，與所述排氣孔連接，用于排出所述外殼內部的氣體。

2.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的截面積大于所述排氣孔的截面積。

3.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔與所述排氣槽形成臺階。

4.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的外輪廓形成為圓形。

5.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的外輪廓形成為多邊形。

6.根據權利要求5所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣槽的外輪廓形成為矩形。

7.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，所述排氣槽具有：

主槽以及從所述主槽的一側向所述外殼的內側方向延伸形成的突出槽。

8.根據權利要求7所述的真空腔，其特征在于，

所述突出槽的寬度小于所述主槽的寬度，所述突出槽與所述主槽形成臺階。

9.根據權利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

所述突出槽的外輪廓形成為矩形。

10.根據權利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

所述突出槽的一側的外輪廓形成為圓弧形。

11.根據權利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

在所述外殼內的所述空間中具有用于支承所述被處理體的工作臺，所述突出槽的至少一部分位于所述工作臺的下部。

12.根據權利要求7或8所述的真空腔，其特征在于，

在所述外殼內的所述空間中具有用于支承所述被處理體的工作臺，所述突出槽位于所述工作臺下部的外側。

13.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔的外輪廓形成為圓形。

14.根據權利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔的外輪廓形成為多邊形。

15.根據權利要求14所述的真空腔，其特征在于，

所述排氣孔的外輪廓形成為矩形。

16.一種真空腔，其包括：

外殼，具有用于收容或移送被處理體的空間；

排氣部，在所述外殼的一面上貫穿形成，內側面折曲形成為具有規定級差的多級臺階；

排氣泵，與所述排氣部連接，用于排出所述外殼內部的氣體。