[實用新型]金屬光罩有效
申請?zhí)枺?/td> | 201220181330.1 | 申請日: | 2012-04-20 |
公開(公告)號: | CN202548531U | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳學(xué)哲 | 申請(專利權(quán))人: | 世禾科技股份有限公司 |
主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H01L21/673 |
代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 馮志云;呂俊清 |
地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 | ||
1.一種金屬光罩,為一框體并形成有至少為一的開口單元,該金屬光罩包括有能與玻璃基板接觸的第一表面,及位置為該第一表面相對面的第二表面,該第一表面為光滑面,其特征在于:該第二表面上形成有至少為一的非平坦區(qū),該非平坦區(qū)位置鄰近該開口單元,該非平坦區(qū)內(nèi)分布著立體的花紋。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬光罩,其特征在于,該非平坦區(qū)是呈環(huán)狀分布于該開口單元外圍的第二表面處。
3.如權(quán)利要求2所述的金屬光罩,其特征在于,該非平坦區(qū)是由連續(xù)性的花紋分布于該環(huán)狀區(qū)域內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的金屬光罩,其特征在于,該非平坦區(qū)內(nèi)分布著相同且重復(fù)性的花紋。
5.如權(quán)利要求1所述的金屬光罩,其特征在于,該非平坦區(qū)是采化學(xué)蝕刻制程于第二表面處加工而成的非平坦區(qū)。
6.如權(quán)利要求1所述的金屬光罩,其特征在于,該非平坦面分布于該第二表面的局部區(qū)域。
7.如權(quán)利要求1所述的金屬光罩,其特征在于,該非平坦面分布區(qū)域涵蓋整個第二表面。
8.如權(quán)利要求1所述的金屬光罩,其特征在于,該金屬光罩的厚度介于0.15~0.7mm。
9.如權(quán)利要求8所述的金屬光罩,其特征在于,該金屬光罩的厚度介于0.25~0.5mm。?
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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