[實用新型]氣體噴灑頭有效
| 申請號： | 201220177033.X | 申請日： | 2012-04-24 |
| 公開（公告）號： | CN202610324U | 公開（公告）日： | 2012-12-19 |
| 發明（設計）人： | 黃智勇;陳建志;王慶鈞;簡榮禎;蔡陳德;林龔樑 | 申請（專利權）人： | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 中國臺灣中*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氣體 噴灑 | ||
1.一種氣體噴灑頭，包括一噴灑頭主體，其特征在于：
該噴灑頭主體具有一氣體作用表面與位于該氣體作用表面上的多個進氣孔，其中各該進氣孔包括一第一進氣道與開設于該第一進氣道周圍的至少一第二進氣道，且該第一進氣道的進氣面積與該至少一第二進氣道的進氣面積的比例在1∶1.5～1∶2.5之間，
在該進氣孔的進氣方向上，該第一進氣道的長度比該第二進氣道的長度多0.5mm～1.5mm。
2.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該第一進氣道的進氣面積在1.8mm2～2.1mm2之間。
3.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該至少一第二進氣道的進氣面積在3.6mm2～4.2mm2之間。
4.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該至少一第二進氣道為一環狀進氣道，且該環狀進氣道環繞該第一進氣道。
5.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該至少一第二進氣道為多個第二進氣道，圍繞該第一進氣道。
6.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該至少一第二進氣道的進氣方向與該第一進氣道的進氣方向平行。
7.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該至少一第二進氣道的進氣方向與該第一進氣道的進氣方向成一夾角。
8.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：各該進氣孔還包括一錐形開口，與該第一進氣道與該至少一第二進氣道相連通。
9.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該第一進氣道與該噴灑頭主體為一體成型。
10.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該第一進氣道是利用螺接或緊密配合的方式連接于該噴灑頭主體上。
11.如權利要求1所述的氣體噴灑頭，其特征在于：還包括位于該氣體作用表面的中心位置的一中央排氣口。
12.如權利要求11所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該中央排氣口是由多個排氣孔所構成。
13.如權利要求11所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該中央排氣口的排氣面積與所述進氣孔的總進氣面積的比例為0.03～0.04。
14.如權利要求11所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該中央排氣口的排氣面積與所述進氣孔的總進氣面積的比例小于0.03。
15.如權利要求14所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該噴灑頭主體還包括至少一環狀排氣口，該環狀排氣口是以該中央排氣口為中心呈同心圓狀配置。
16.如權利要求15所述的氣體噴灑頭，其特征在于：該環狀排氣口由多個排氣孔所構成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
