[實用新型]研磨盤、研磨墊整理器及研磨裝置

有效

• 申請號: 201220175579.1
• 申請日: 2012-04-23
• 公開（公告）號: CN202622547U
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 唐強
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: B24B37/16
• 分類號: B24B37/16;B24B53/017;B24B37/04
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種研磨盤，其特征在于，包括內圈和外圈，所述外圈設置于所述內圈的外周，所述內圈和外圈之間具有間隙，所述內圈和外圈的工作表面位于同一水平面上，所述內圈的工作表面上均勻分布若干由內向外逐漸變大的內圈溝槽，所述外圈的工作表面上均勻分布若干由內向外逐漸變大的外圈溝槽。

2.根據權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述外圈是環形的。

3.根據權利要求2所述的研磨盤，其特征在于，所述內圈是圓形的。

4.根據權利要求3所述的研磨盤，其特征在于，所述內圈溝槽從內圈的中心區域向外一直延伸到所述內圈的外圓周，所述外圈溝槽從所述外圈的內圓周一直延伸到所述外圈的外圓周。

5.根據權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述內圈和外圈之間的間隙的距離是10-20mm。

6.根據權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述內圈上設有3至8個內圈溝槽。

7.根據權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述外圈上設有5至10個外圈溝槽。

8.一種研磨墊整理器，包括研磨盤和驅動手臂，所述驅動手臂連接于所述研磨盤的上方，其特征在于，所述研磨盤采用如權利要求1～7中任意一項所述的研磨盤。

9.根據權利要求8所述的研磨墊整理器，其特征在于，所述研磨墊整理器還包括旋轉馬達、用于支撐內圈的內圈支撐軸以及用于支撐外圈的外圈支撐軸，所述內圈支撐軸的一端固定設置于所述外圈支撐軸的內部，所述內圈支撐軸的另一端與所述旋轉馬達連接。

10.一種研磨裝置，包括研磨平臺和研磨墊，所述研磨墊設置于所述研磨平臺上，其特征在于，還包括如權利要求8所述的研磨墊整理器，所述研磨墊整理器設置于所述研磨墊上。?