[實(shí)用新型]一種干刻機(jī)的上電極結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220169321.0
• 申請日: 2012-04-19
• 公開（公告）號: CN202663641U
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭建博
• 申請（專利權(quán)）人: 彩虹(佛山)平板顯示有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34;H01J37/305;C23F4/00;C30B33/12;H01L21/3065
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 田洲

【技術(shù)領(lǐng)域】

本實(shí)用新型屬于刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種干刻機(jī)的上電極結(jié)構(gòu)。

【背景技術(shù)】

目前用于制造液晶及0LED面板的干刻機(jī)的上電極線圈的設(shè)計(jì)如圖1所示，采用比較廣泛的工藝是單線圈10，而在干刻制程中，因?yàn)閱尉€圈10只能對等離子體進(jìn)行整體控制，無法實(shí)現(xiàn)分區(qū)域控制，容易產(chǎn)生刻蝕不均勻缺陷。

【實(shí)用新型內(nèi)容】

本實(shí)用新型的目的在于提供一種干刻機(jī)的上電極結(jié)構(gòu)，以解決上述技術(shù)問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種干刻機(jī)的上電極結(jié)構(gòu)，包括電極板和設(shè)置于電極板上的九個(gè)線圈。

本實(shí)用新型進(jìn)一步的改進(jìn)在于：所述九個(gè)線圈呈矩陣式排列。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)：本實(shí)用新型通過在上電極的電極板上矩陣式的設(shè)置9個(gè)線圈，使得基板在正常等離子刻蝕中，可實(shí)現(xiàn)對腔室等離子的密度進(jìn)行九個(gè)區(qū)域控制，有利于控制干刻中出現(xiàn)的刻蝕不均勻；在蝕刻法生產(chǎn)中不僅可以提高改善干刻制程中產(chǎn)生的不均勻問題，并且可以實(shí)現(xiàn)基板中心及四角同步刻蝕，提高刻蝕效率；經(jīng)干刻法生產(chǎn)后，基板就不會由于基板中心及四角等離子密度不同，致使刻蝕速率不一，造成刻蝕不均勻，同時(shí)可以提高基板的刻蝕效率。

【附圖說明】

圖1是現(xiàn)有干刻機(jī)上電極線圈的示意圖。

圖2是本實(shí)用新型的干刻機(jī)上電極線圈的示意圖。

【具體實(shí)施方式】

下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)描述：

請參閱圖2所示，本實(shí)用新型一種干刻機(jī)的上電極結(jié)構(gòu)包括電極板1和設(shè)置于電極板1上的九個(gè)線圈2，電極板1為鋁板，鋁板上設(shè)有一層陶瓷層；九個(gè)線圈2矩陣式排列于陶瓷層上，每個(gè)線圈2獨(dú)立控制；基板在正常等離子刻蝕中，可實(shí)現(xiàn)對腔室等離子的密度進(jìn)行九個(gè)區(qū)域控制，有利于控制干刻中出現(xiàn)的刻蝕不均勻；在蝕刻法生產(chǎn)中不僅可以提高改善干刻制程中產(chǎn)生的不均勻問題，并且可以實(shí)現(xiàn)基板中心及四角同步刻蝕，提高刻蝕效率；經(jīng)干刻法生產(chǎn)后，基板就不會由于基板中心及四角等離子密度不同，致使刻蝕速率不一，造成刻蝕不均勻，同時(shí)可以提高基板的刻蝕效率。