[實(shí)用新型]高壓開關(guān)器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220167335.9 | 申請日: | 2012-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN202523717U | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 易坤 | 申請(專利權(quán))人: | 成都芯源系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/47;H01L21/28;H01L21/336 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 611731 四川省成都*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高壓 開關(guān) 器件 | ||
1.一種高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述高壓開關(guān)器件包括:
襯底,具有第一型摻雜;
形成在襯底上的外延層;
形成在外延層內(nèi)的漏區(qū)和源區(qū),其中所述源區(qū)具有第一型摻雜,所述漏區(qū)具有第二型摻雜;
位于所述源區(qū)和所述漏區(qū)之間的漂移區(qū);
覆蓋部分源區(qū)的柵氧;
覆蓋柵氧覆蓋之外的其他外延層部分的場氧;
形成在柵氧上的柵極部分;以及
形成在場氧上的蛇形多晶硅部分,其中所述蛇形多晶硅部分具有第一端和第二端,其第一端與所述漏區(qū)接觸,其第二端靠近所述柵極部分但與其分開,所述蛇形多晶硅部分在垂直方向上位于所述漂移區(qū)上。
2.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,
所述高壓開關(guān)器件包括金屬氧化物場效應(yīng)晶體管或者結(jié)型場效應(yīng)晶體管;
所述第一型摻雜為P型,所述第二型摻雜為N型。
3.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,
所述高壓開關(guān)器件包括金屬氧化物場效應(yīng)晶體管或者結(jié)型場效應(yīng)晶體管;
所述第一型摻雜為N型,所述第二型摻雜為P型。
4.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述蛇形多晶硅部分的電阻值范圍為3×106Ω~5×106Ω。
5.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述蛇形多晶硅部分的第二端通過金屬線引出,并通過電阻器連接至參考地。
6.如權(quán)利要求4所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述電阻器的阻值為所述蛇形多晶硅部分的電阻值的1/50以下。
7.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述漂移區(qū)包括多個輕摻雜區(qū)和多個第三摻雜區(qū),所述輕摻雜區(qū)和第三摻雜區(qū)被依次交替放置在漂移區(qū)內(nèi);其中所述輕摻雜區(qū)的摻雜濃度水平低于所述第三摻雜區(qū)的摻雜濃度水平。
8.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述高壓開關(guān)器件進(jìn)一步包括形成于所述源區(qū)的基區(qū),所述基區(qū)具有第一型摻雜。
9.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述高壓開關(guān)器件進(jìn)一步包括:
與第一重?fù)诫s區(qū)和第二重?fù)诫s區(qū)接觸的源極電極;以及
與第三重?fù)诫s區(qū)接觸的漏極電極。
10.如權(quán)利要求1所述的高壓開關(guān)器件,其特征在于,所述柵極部分采用多晶硅。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





