[實(shí)用新型]光學(xué)測(cè)量裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220151889.X
• 申請(qǐng)日: 2012-04-11
• 公開（公告）號(hào): CN202599864U
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳大志;鄭媛;孫曉偉;史偉杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 法國(guó)圣戈班玻璃公司
• 主分類號(hào): G01N21/958
• 分類號(hào): G01N21/958
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 朱勝;李春暉

1.一種光學(xué)測(cè)量裝置，用于測(cè)量透明基板，其特征在于，包括：

固定所述透明基板的固定器件，所述固定器件與所述透明基板的待測(cè)表面相接觸；

對(duì)所述待測(cè)表面進(jìn)行成像，形成待測(cè)表面像的成像器件；

位于所述待測(cè)表面像的像面位置處，通過探測(cè)所述待測(cè)表面像獲得缺陷信息的探測(cè)器件。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述固定器件為支撐式固定器件，所述透明基板位于所述支撐式固定器件的上方，所述透明基板的待測(cè)表面與所述支撐式固定器件的上表面相接觸。

3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述成像器件位于支撐式固定器件上方，所述探測(cè)器件位于所述成像器件的上方。

4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述支撐式固定器件為基臺(tái)。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述固定器件為懸掛式固定器件，所述透明基板的待測(cè)表面與所述懸掛式固定器件的底部相接觸。

6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述固定器件包括固定于透明基板上表面邊緣位置處的兩個(gè)懸掛式固定器件，所述透明基板位于所述兩個(gè)懸掛式固定器件的下方，所述透明基板的待測(cè)表面與所述兩個(gè)懸掛式固定器件的底部相接觸。

7.如權(quán)利要求5或6所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述成像器件位于透明基板下方，所述探測(cè)器件位于所述成像器件的下方。

8.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述成像器件位于透明基板上方，所述探測(cè)器件位于所述成像器件的上方。

9.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述懸掛式固定器件包括固定部、連接部、吸盤，所述固定部通過連接部與吸盤連接在一起，所述吸盤與所述透明基板上表面的邊緣位置處相接觸。

10.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述懸掛式固定器件包括固定部、連接部、夾持部，所述固定部通過連接部與夾持部的頂面連接在一起，透明基板的端部嵌入至所述夾持部?jī)?nèi)，與夾持部緊密接觸，以實(shí)現(xiàn)固定。

11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)式測(cè)量裝置，其特征在于，所述成像器件為凸透鏡。

12.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)式測(cè)量裝置，其特征在于，所述探測(cè)器件為圖像傳感器。

13.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)式測(cè)量裝置，其特征在于，所述探測(cè)器件為CMOS圖像傳感器或CCD圖像傳感器。

14.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)式測(cè)量裝置，其特征在于，所述成像器件和所述探測(cè)器件集成在一起。

15.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述光學(xué)測(cè)量裝置還包括照明器件，用于照亮所述待測(cè)表面。

16.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述照明器件包括至少一個(gè)光源，所述光源發(fā)出的光掠入射至待測(cè)表面。

17.如權(quán)利要求16所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述照明器件包括位于透明基板任意一側(cè)的光源。

18.如權(quán)利要求16所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述照明器件包括分別位于透明基板相對(duì)側(cè)的兩個(gè)光源。

19.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述固定器件為基臺(tái)，所述兩個(gè)光源裝配于基臺(tái)側(cè)面，所述兩個(gè)光源的發(fā)光面朝向基臺(tái)。

20.如權(quán)利要求16～19任意一權(quán)利要求所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述光源為線性燈或線性激光。

21.如權(quán)利要求16所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述光源發(fā)出的光入射至待測(cè)表面的入射角在80～90°的范圍內(nèi)。

22.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述光學(xué)測(cè)量裝置還包括掃描器件，所述掃描器件與成像器件和探測(cè)器件固定在一起，所述掃描器件能沿與待測(cè)表面平行的平面移動(dòng)，以帶動(dòng)所述成像器件和所述探測(cè)器件移動(dòng)，獲取待測(cè)表面不同位置處的缺陷信息。

23.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，所述透明基板為玻璃。