[實用新型]連續式鍍膜設備

有效

• 申請號: 201220141891.9
• 申請日: 2012-04-06
• 公開（公告）號: CN202558929U
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發明（設計）人: 應偉達
• 申請（專利權）人: 上海千達不銹鋼有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 上海東亞專利商標代理有限公司 31208
• 代理人: 董梅

1.一種連續式鍍膜設備，包含有多弧離子源、真空裝置、進氣裝置和溫控裝置的真空鍍膜機構，其特征在于：由有進料口的進料室、有出料口的出料室和真空鍍膜室構成耐壓的密封空間，所述的真空鍍膜室兩端分別與進料室、出料室密封連接，所述的真空鍍膜機構設在真空鍍膜室，其中，所述的進料室設有放卷軸，放卷軸上設有剎車機構；所述的出料室設有收卷軸，收卷軸由電機帶動；所述的真空鍍膜室內設有張力輥。

2.根據權利要求1所述的連續式鍍膜設備，其特征在于：所述的進料室和出料室均為圓形、橢圓形或矩形，放卷軸、收卷軸安裝在不低于圓形、橢圓形、矩形中軸位置，進料室的進料口和出料室的出料口設在放卷軸、收卷軸的一端，由帶密封的門密閉。

3.根據權利要求1或2所述的連續式鍍膜設備，其特征在于：所述的進料室的放卷軸一側外端連接剎車機構，另一側設置進料口；所述的出料室的收卷軸一側外端與電機軸連接，另一側設置有出料口。

4.根據權利要求1所述的連續式鍍膜設備，其特征在于：所述的真空鍍膜室由若干個真空傳送區段密封連接構成，每1～6m為一個真空傳送區段。

5.根據權利要求4所述的連續式鍍膜設備，其特征在于：在所述的真空傳送區段上設置真空裝置、進氣裝置、充氣閥和溫控裝置。

6.根據權利要求1或4所述的連續式鍍膜設備，其特征在于：所述的真空鍍膜室的外殼由鋼板拼接構成，在鋼板上設有網狀加強筋。

7.根據權利要求4所述的一種連續式鍍膜設備，其特征在于：在所述的真空傳送區段的下端，均勻安裝有若干個多弧離子源。