[實用新型]連續式鍍膜設備

有效

• 申請號: 201220141891.9
• 申請日: 2012-04-06
• 公開（公告）號: CN202558929U
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發明（設計）人: 應偉達
• 申請（專利權）人: 上海千達不銹鋼有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 上海東亞專利商標代理有限公司 31208
• 代理人: 董梅

技術領域

本實用新型涉及一種不銹鋼板等金屬基材的連續式鍍膜設備。

背景技術

為增加金屬基材的耐磨損、耐腐蝕性能及改善金屬表面的美觀，會在金屬基材表面鍍一層耐磨損、耐腐蝕的貴重金屬膜，如鈦、鈷、金等，或者鍍一層貴重金屬的碳化物或氮化物。

近幾十年來，采用真空多弧離子鍍膜，成為金屬鍍膜的重要技術。由于多弧真空離子鍍膜技術是無污染，膜層牢固美觀，所以得到廣泛應用，但是現在真空鍍膜設備是在一個真空爐中，把待鍍工件掛置于真空爐內，在真空爐內完成抽真空、離子發射、充氮氣或乙炔氣等程序，每爐約需30分鐘，其中鍍膜只需3分鐘左右的時間，因此生產效率低下。另外每一個爐鍍膜的工件容易產生色差，很難使產品顏色一致。

鑒于上述原因，可以發現，現有的真空多弧離子鍍膜設備，存在工序麻煩、容量小、能耗高、效率低、生產產品質量差等缺點。

發明內容

本實用新型目的在于提供一種操作簡便、產量大、效率高的連續式鍍膜設備。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種連續式鍍膜設備，包含有多弧離子源、真空裝置、進氣裝置和溫控裝置的真空鍍膜機構，由有進料口的進料室、有出料口的出料室和真空鍍膜室構成耐壓的密封空間，所述的真空鍍膜室兩端分別與進料室、出料室密封連接，所述的真空鍍膜機構設在真空鍍膜室，其中，所述的進料室設有放卷軸，放卷軸上設有剎車機構；所述的出料室設有收卷軸，收卷軸由電機帶動；所述的真空鍍膜室內設有張力輥，用于張緊待鍍膜金屬基材。由于本實用新型為連續式鍍膜設備，能不間斷地進行金屬基材離子鍍膜，因此操作簡單、產量大、效率高、節能。

在上述方案基礎上，所述的進料室和出料室均為圓形、橢圓形、矩形等形狀，放卷軸、收卷軸安裝在不低于圓形、橢圓形、矩形中軸位置，進料室的進料口和出料室的出料口設在放卷軸、收卷軸的同一端，由帶密封的門密閉，方便操作。

在上述方案基礎上，所述的進料室的放卷軸一側外端連接剎車機構，另一側設置進料口；所述的出料室的收卷軸一側外端與電機軸連接，另一側設置有出料口，通過設在收卷軸的電機帶動金屬基材上卷，在出料室不設驅動電動，不用擔心二軸的轉動的同步性，結構更簡單，性能更穩定。

為進一步擴大本實用新型所述設備的產量和效率，還可以擴展真空鍍膜室的長度，在上述方案基礎上，所述的真空鍍膜室由若干個真空傳送區段密封連接構成，每1～6m為一個真空傳送區段。

在上述方案基礎上，在所述的真空傳送區段上設置真空裝置、進氣裝置、充氣閥和溫控裝置構成的真空鍍膜機構，真空度可通過調節閥調節。

在上述方案基礎上，所述的真空鍍膜室的外殼由鋼板拼接構成，在鋼板上設有網狀加強筋，用于防止設備在真空狀態運行時塌陷、皺扁。

為設備穩定，方便安裝，在上述方案基礎上，在所述的真空傳送區段的下端，均勻安裝有若干個多弧離子源。

本實用新型的連續式鍍膜設備能不間斷地進行金屬基材離子鍍膜，因此本裝置操作簡單、工序簡便、產量大、效率高。

附圖說明

圖1為本實用新型的連續式鍍膜設備結構的俯視示意圖；

圖2為本實用新型的連續式鍍膜設備結構的主視示意圖；

圖中標號說明：

1—?進料室；??????????????????????????????2—?出料室；

3—?真空鍍膜室；??????????????????????4—?離子源；

5—?加強筋；??????????????????????????????6—?左張力輥；

7—?右張力輥；??????????????????????????8—?鋼板卷；

9—?剎車系統；??????????????????????????10—?電機；

11—?真空裝置；????????????????????????12—?進氣裝置；

13—?進料口；??????????????????????????14—?出料口；

15—?溫控裝置；?????????????????????????16—?放卷軸；

17—?收卷軸；????????????????????????????18—?充氣閥。

具體實施方式

下面結合附圖，對本實用新型作進一步描述。