[實用新型]一種制備熔融態高堿高鋁硅酸鹽玻璃的裝置

有效

• 申請號: 201220136331.4
• 申請日: 2012-04-01
• 公開（公告）號: CN202543026U
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 方精祥;侯建偉;李兆廷
• 申請（專利權）人: 東旭集團有限公司
• 主分類號: C03B5/03
• 分類號: C03B5/03
• 代理公司: 石家莊眾志華清知識產權事務所(特殊普通合伙) 13123
• 代理人: 王苑祥

1.一種制備熔融態高堿高鋁硅酸鹽玻璃的裝置，結構中包括帶有加熱單元的熔解池（2）、全氧加熱澄清池（1）、及設置在溶解池（2）與全氧加熱澄清池（1）之間的熔融態玻璃通道（3），其特征在于：所述裝置的加熱單元結構中包括均勻分布在熔解池（2）的池底和池壁上的氧化錫電極（4）。

2.根據權利要求1所述的一種制備熔融態高堿高鋁硅酸鹽玻璃的裝置，其特征在于：所述的全氧加熱澄清池（1）的一側壁上設置有全氧燒槍（5），另一側壁上設置有排煙通道（7）。

3.根據權利要求1所述的一種制備熔融態高堿高鋁硅酸鹽玻璃的裝置，其特征在于：所述的流液通道（3）的內壁上設置有鉑金層（6）。

4.根據權利要求1所述的一種制備熔融態高堿高鋁硅酸鹽玻璃的裝置，其特征在于：所述的氧化錫電極（4）借助在熔解池（2）的池底和池壁上設置的預留孔嵌入、并借助密封裝置固定。