[實用新型]為掩模版貼附保護膜的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220106657.2 | 申請日: | 2012-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN202494859U | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 黃執(zhí)祥;侯廣杰 | 申請(專利權)人: | 深圳市龍圖光電有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/62 | 分類號: | G03F1/62;G03F1/72 |
| 代理公司: | 深圳市中原力和專利商標事務所(普通合伙) 44289 | 代理人: | 王英鴻 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模版 保護膜 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及掩膜版技術領域,尤其涉及一種為掩模版貼附保護膜的裝置。
背景技術
掩模版photomask,也稱光罩、光學掩模版,常見的掩模版有鉻版(chrome?mask)、干版(emulsion?mask)、菲林(film?mask)等,是指在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。
由于掩模版的玻璃基板或表面金屬薄膜很容易被尖銳硬物質(zhì)劃傷,在掩膜版表面形成阻光或透光的劃痕。因此,現(xiàn)有技術中,為防止掩膜版表面出現(xiàn)劃痕,一般使用保鮮膜人工貼附到掩膜版正反兩面,既可以防止劃傷,也能夠避免掩膜版表面污染。
但是,保鮮膜較薄,質(zhì)地柔軟,因此對于一些硬質(zhì)顆粒來說,保鮮膜起不到保護作用,加之保鮮膜容易產(chǎn)生靜電,靜電會擊傷掩膜版上的圖形,同時手工貼膜,不易操作,且容易在保鮮膜和掩膜版之間形成氣泡。
實用新型內(nèi)容
為此,本實用新型所要解決的技術問題是:提供一種為掩模版貼附保護膜的裝置,以克服現(xiàn)有技術中掩膜版貼膜產(chǎn)生的缺陷。
本實用新型提供了一種為掩模版貼附保護膜的裝置,包括:用于安裝保護膜的出膜軸、用于平整扯拽保護膜并能夠將其貼附到掩膜版上的貼膜輥軸、以及用于驅動出膜軸和貼膜輥軸運轉的驅動裝置,出膜軸和貼膜輥軸之間由保護膜連接。
其中,所述出膜軸和貼膜輥軸為兩個,分別從掩膜版上下兩面貼附保護膜。
所述裝置還包括:一用于回收報廢保護膜的回收軸,該回收軸也由所述驅動裝置驅動運轉。
本實用新型所述為掩模版貼附保護膜的裝置,通過設置出膜軸、貼膜輥軸、以及驅動裝置,使得保護膜可以自動貼附到掩膜版上。克服了背景技術中所述手工貼附保鮮膜時不易操作且容易在保鮮膜和掩膜版之間形成氣泡的弊端。又由于本實用新型所述裝置貼附的是保護膜,克服了背景技術中所述貼附保鮮膜的弊端。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例所述為掩模版貼附保護膜的裝置結構示意圖。
具體實施方式
下面,結合附圖對本實用新型進行詳細描述。
如圖1所示,本實施例提供了一種為掩模版貼附保護膜的裝置,該裝置包括:用于安裝保護膜的出膜軸11、用于平整扯拽保護膜并能夠將其貼附到掩膜版上的貼膜輥軸12、以及用于驅動出膜軸和貼膜輥軸運轉的驅動裝置(圖中未標示),出膜軸11和貼膜輥軸12之間由保護膜20連接。
為實現(xiàn)掩膜版的上下兩面同時貼膜,所述出膜軸和貼膜輥軸為兩個,分別從掩膜版上下兩面貼附保護膜。
為實現(xiàn)報廢保護膜的回收,本實施例所述為掩模版貼附保護膜的裝置還包括一用于回收報廢保護膜的回收軸13,該回收軸13也由所述驅動裝置驅動運轉。
本實施例所述保護膜11,其寬度為10~650mm,與其尺寸匹配的貼膜輥軸12最大貼膜寬度為650mm,用于驅動驅動裝置運轉的壓縮空氣氣源的氣壓為0.5~7.5bar。
本實施例所述裝置首次在掩膜版行業(yè)將保護膜與上述貼膜裝置相結合用于掩膜版表面防護。防靜電離心不但具有防靜電特點,還耐磨防塵不易劃傷。
本實施例所述裝置由于使用機器自動貼附,避免了貼附時的氣泡產(chǎn)生。
綜上所述,本實用新型所述為掩模版貼附保護膜的裝置,通過設置出膜軸、貼膜輥軸、以及驅動裝置,使得保護膜可以自動貼附到掩膜版上。克服了背景技術中所述手工貼附保鮮膜時不易操作且容易在保鮮膜和掩膜版之間形成氣泡的弊端。又由于本實用新型所述裝置貼附的是保護膜,克服了背景技術中所述貼附保鮮膜的弊端。
以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已,并不用以限制本實用新型,凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





