[實用新型]為掩模版貼附保護膜的裝置有效
| 申請號： | 201220106657.2 | 申請日： | 2012-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN202494859U | 公開（公告）日： | 2012-10-17 |
| 發明（設計）人： | 黃執祥;侯廣杰 | 申請（專利權）人： | 深圳市龍圖光電有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/62 | 分類號： | G03F1/62;G03F1/72 |
| 代理公司： | 深圳市中原力和專利商標事務所(普通合伙) 44289 | 代理人： | 王英鴻 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 模版 保護膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.?一種為掩模版貼附保護膜的裝置，其特征在于，包括：用于安裝保護膜的出膜軸、用于平整扯拽保護膜并能夠將其貼附到掩膜版上的貼膜輥軸、以及用于驅動出膜軸和貼膜輥軸運轉的驅動裝置，出膜軸和貼膜輥軸之間由保護膜連接。
2.?根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述出膜軸和貼膜輥軸為兩個，分別從掩膜版上下兩面貼附保護膜。
3.?根據權利要求1或者2所述的裝置，其特征在于，還包括一用于回收報廢保護膜的回收軸，該回收軸也由所述驅動裝置驅動運轉。
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- 專利分類
G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
