[實(shí)用新型]可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220101661.X | 申請(qǐng)日: | 2012-03-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202499902U | 公開(公告)日: | 2012-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/50 | 分類號(hào): | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京凱特來知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11260 | 代理人: | 鄭立明;趙鎮(zhèn)勇 |
| 地址: | 102600 北京市大興區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 實(shí)現(xiàn) 自動(dòng) 翻轉(zhuǎn) 基片架 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜設(shè)備的基片架,尤其涉及一種可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架。
背景技術(shù)
真空鍍膜設(shè)備根據(jù)其鍍膜原理及形式的不同,主要分為物理氣相沉積設(shè)備及化學(xué)氣相沉積設(shè)備。其中真空濺射鍍膜設(shè)備和真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是最為常見、應(yīng)用最廣的鍍膜設(shè)備。
在鍍膜設(shè)備(無論是真空濺射鍍膜設(shè)備還是真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)各部分結(jié)構(gòu)中,基片架的結(jié)構(gòu)是最為重要的。它是被鍍產(chǎn)品——基片安裝、固定的機(jī)構(gòu),基片架結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的合理性直接關(guān)系到鍍膜的效果和質(zhì)量。由于濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜繞射性差(即基片面對(duì)鍍膜材料的一面可以沉積上薄膜而背對(duì)膜材的一面卻不能沉積上薄膜),而更多的產(chǎn)品例如精密天文望遠(yuǎn)鏡鏡片、晶體膜厚測(cè)控儀晶振片等都要求在基片兩面上沉積一種或幾種相同或不同的薄膜。
采用現(xiàn)有技術(shù)中的基片架結(jié)構(gòu),就只能在完成基片一面的鍍膜工作后打開真空室,換成另一面進(jìn)行鍍膜,不但影響了工作效率,而且損害了鍍膜質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架,該基片架能實(shí)現(xiàn)在鍍膜工藝過程中基片的自由翻轉(zhuǎn),使基片的兩個(gè)表面在一次鍍膜工藝過程中都能均勻、牢固地沉積上薄膜。
本實(shí)用新型的目的是通過以下方案實(shí)現(xiàn)的:
本實(shí)用新型的可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架,基片架包括基片卡具,所述基片卡具通過回轉(zhuǎn)軸安裝在支座上,所述回轉(zhuǎn)軸的后端設(shè)有棘輪,所述支座固定在鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上;
與所述棘輪對(duì)應(yīng)的部位設(shè)有棘爪,所述棘爪連接有升降裝置;
當(dāng)所述棘爪上升時(shí),所述棘爪與棘輪嚙合;當(dāng)所述棘爪下降時(shí),所述棘爪與棘輪分離。
由上述本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案可以看出,本實(shí)用新型實(shí)施例提供的可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架,由于基片卡具通過回轉(zhuǎn)軸安裝在支座上,回轉(zhuǎn)軸的后端設(shè)有棘輪,與棘輪對(duì)應(yīng)的部位設(shè)有棘爪,棘爪連接有升降裝置;當(dāng)棘爪上升時(shí),棘爪與棘輪嚙合;當(dāng)棘爪下降時(shí),棘爪與棘輪分離。通過棘輪-棘爪機(jī)構(gòu)可以在鍍膜過程中實(shí)現(xiàn)基片的自由翻轉(zhuǎn),克服真空濺射鍍膜設(shè)備和真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備繞射性差的特點(diǎn),使基片的兩個(gè)表面在一次鍍膜工藝過程中都能均勻、牢固的沉積上薄膜,以達(dá)到完成工藝要求、保證鍍膜質(zhì)量同時(shí)提高工作效率的目的。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中基片架與棘輪的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例中棘爪-棘輪的狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
本實(shí)用新型的可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架,其較佳的具體實(shí)施方式是:
基片架包括基片卡具,所述基片卡具通過回轉(zhuǎn)軸安裝在支座上,所述回轉(zhuǎn)軸的后端設(shè)有棘輪,所述支座固定在鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上;
與所述棘輪對(duì)應(yīng)的部位設(shè)有棘爪,所述棘爪連接有升降裝置;
當(dāng)所述棘爪上升時(shí),所述棘爪與棘輪嚙合;當(dāng)所述棘爪下降時(shí),所述棘爪與棘輪分離。
所述升降裝置包括氣缸,也可以采用直線電機(jī)或其它的升降裝置。
所述棘爪和棘輪的材料選擇40Cr。
本實(shí)用新型可以在保證鍍膜質(zhì)量同時(shí)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的基片架,使基片兩面的鍍膜在一次鍍膜工作中完成,提高工作效率。
具體實(shí)施例:
如圖1、圖2所示,基片架包括基片卡具2,基片卡具2通過回轉(zhuǎn)軸5安裝在支座3上,回轉(zhuǎn)軸的后端設(shè)有棘輪4,支座3固定在鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)6上。基片1是鍍膜材料沉積的區(qū)域,為最終的產(chǎn)品,其安裝、固定在基片卡具2上。
可以通過棘輪4的旋轉(zhuǎn)來帶動(dòng)基片架的自由翻轉(zhuǎn),棘爪7與棘輪4嚙合,是基片架實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的動(dòng)力裝置,棘爪7連接有升降裝置,本實(shí)施例中采用的是氣缸8,通過氣缸桿的伸縮運(yùn)功帶動(dòng)棘爪7的升降,使棘爪7與棘輪4嚙合或分離,來提供或消除基片架自動(dòng)翻轉(zhuǎn)的動(dòng)力。
具體工作的過程是:
如圖3所示,當(dāng)基片1裝入基片架后,開啟旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)6,進(jìn)行基片1的一個(gè)表面的鍍膜工作,完成后氣缸桿自動(dòng)收縮帶動(dòng)棘爪7上升與棘輪4嚙合71,在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)6旋轉(zhuǎn)過程中,棘爪7便可以帶動(dòng)棘輪4旋轉(zhuǎn),提供基片架翻轉(zhuǎn)動(dòng)力,使基片架自動(dòng)翻轉(zhuǎn);當(dāng)基片1全部完成翻轉(zhuǎn)后,氣缸桿自動(dòng)拉伸,帶動(dòng)棘爪7下降與棘輪4脫離72,使基片架停止翻轉(zhuǎn),然后進(jìn)行基片1另一表面的鍍膜工作。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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