[實用新型]真空鍍膜用離子轟擊板機構有效
| 申請號: | 201220096743.X | 申請日: | 2012-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN202881375U | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發明(設計)人: | 朱殿榮;曹俊 | 申請(專利權)人: | 無錫康力電子有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
| 地址: | 214253 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空鍍膜 離子 轟擊 板機 | ||
技術領域
?本實用新型涉及真空鍍膜領域,尤其是真空鍍膜中,采用離子轟擊基材進行基材改性和清洗的機構,具體地說是一種真空鍍膜用離子轟擊板機構。
背景技術
目前,在真空鍍膜領域,國內外一般采用吹風、粘塵的方式對基材進行清洗,然后采用噴涂或浸涂的方式對基材進行表面改性。這種大氣環境下的化學改性方法,容易對基材產生表面缺陷,而且污染環境。在真空鍍膜工藝中一般沒有采用過陽極離子板的設備和機構,當基材運行速度較快的情況下,鍍膜時,由于濺射能量的有限,容易造成膜層和基材的附著力不是太好。因此影響鍍膜產品的質量和產量。
發明內容
本實用新型的目的是針對傳統的基材改性和清洗中所存在的容易對基材產生表面缺陷,污染環境和膜層與基材的附著力不好的問題,提出一種設計結構簡單,安裝方便的真空鍍膜用離子轟擊板機構。
本實用新型的技術方案是:
一種真空鍍膜用離子轟擊板機構,它包括電源、與電源陰極相連的充氣管、與電源陽極相連的冷卻水管和絕緣件,所述的冷卻水管與充氣管相對設置,待轟擊基材從冷卻水管和充氣管間的夾隙中通過,進行離子轟擊,所述的充氣管的一端為進氣口,充氣管上與待轟擊基材相對的一面設有若干個出氣口,所述的充氣管和冷卻水管的兩端夾裝絕緣件。
本實用新型的陽極與陰極采用不銹鋼板材。
本實用新型的冷卻水管的兩端分別為進水口和出水口,進水口和出水口串接,循環冷卻。
本實用新型的充氣管中充入氬氣。
本實用新型的若干個出氣口均勻的布置在充氣管上。
本實用新型的各出氣口的孔徑均為0.5mm,各出氣口的間隔為30mm。
本實用新型的絕緣件為聚四氟絕緣件。
本實用新型的有益效果:
本實用新型通過物理方法對基材表面改性,提高基材于膜層的附著力,改善品質。
本實用新型的設計結構簡單,安裝方便;能保證鍍件基材的清潔、干燥,避免底涂層出現麻點、附著力差等缺點。
本實用新型的工作壓力:0.1-1Pa;工作電壓:幾百-1000V??電流:200-800mA。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
其中:1、進氣管;2、冷卻水管;3、進氣口;4、出氣口;
5、進水口;6、出水口;7、絕緣件;8、基材。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明。
如圖1所示,一種真空鍍膜用離子轟擊板機構,它包括電源、與電源陰極相連的充氣管1、與電源陽極相連的冷卻水管2和絕緣件7,所述的冷卻水管2與充氣管1相對設置,待轟擊基材8從冷卻水管2和充氣管1間的夾隙中通過,進行離子轟擊,所述的充氣管1的一端為進氣口3,充氣管1上與待轟擊基材8相對的一面設有若干個出氣口4,所述的充氣管1和冷卻水管2的兩端夾裝絕緣件7。
本實用新型的陽極與陰極采用不銹鋼板材。
本實用新型的冷卻水管2的兩端分別為進水口5和出水口6,進水口5和出水口6串接,循環冷卻。
本實用新型的充氣管1中充入氬氣;若干個出氣口4均勻的布置在充氣管1上;各出氣口4的孔徑均為0.5mm,各出氣口4的間隔為30mm。
本實用新型的絕緣件7為聚四氟絕緣件。
具體實施時:
陽極與陰極用不銹鋼板材制作,在其內部導入循環冷卻水,陰極朝基材一面布入氬氣充氣管,管上每隔30mm用激光鉆0.5mm出氣孔,陰陽極間用聚四氟絕緣材料間隔,采用陽離子對于基材進行改性,提高基材于膜層的附著力,改善品質。
本實用新型未涉及部分均與現有技術相同或可采用現有技術加以實現。
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