[實用新型]真空鍍膜用離子轟擊板機構

有效

• 申請號: 201220096743.X
• 申請日: 2012-03-14
• 公開（公告）號: CN202881375U
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 朱殿榮;曹俊
• 申請（專利權）人: 無錫康力電子有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 夏平

1.一種真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是它包括電源、與電源陰極相連的充氣管（1）、與電源陽極相連的冷卻水管（2）和絕緣件（7），所述的冷卻水管（2）與充氣管（1）相對設置，待轟擊基材（8）從冷卻水管（2）和充氣管（1）間的夾隙中通過，進行離子轟擊，所述的充氣管（1）的一端為進氣口（3），充氣管（1）上與待轟擊基材（8）相對的一面設有若干個出氣口（4），所述的充氣管（1）和冷卻水管（2）的兩端夾裝絕緣件（7）。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是所述電源的陽極與陰極采用不銹鋼板材。

3.根據權利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是所述的冷卻水管（2）的兩端分別為進水口（5）和出水口（6），進水口（5）和出水口（6）串接，循環冷卻。

4.根據權利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是所述的充氣管（1）中充入的氣體為氬氣。

5.根據權利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是所述的若干個出氣口（4）均勻的布置在充氣管（1）上。

6.根據權利要求1、5所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是所述的各出氣口（4）的孔徑均為0.5mm，各出氣口（4）的間隔為30mm。

7.根據權利要求1所述的真空鍍膜用離子轟擊板機構，其特征是所述的絕緣件（7）為聚四氟絕緣件。