[實用新型]2100納米帶通紅外濾光片有效
| 申請號: | 201220091300.1 | 申請日: | 2012-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN202472023U | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 呂晶 | 申請(專利權)人: | 杭州麥樂克電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;B32B9/04;B32B15/00 |
| 代理公司: | 杭州金源通匯專利事務所(普通合伙) 33236 | 代理人: | 唐迅 |
| 地址: | 310000 浙江省杭州市西*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 2100 納米 通紅 濾光 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種濾光片,特別是2100納米帶通紅外濾光片。?
背景技術
在許多工業生產領域,需要對物料(如冶金鋼鐵行業的燒結物料、食品加工行業的糧食物料和煙草行業的煙絲等)的水分進行精確檢測,一保證產品的質量,提高生產效率,降低能源消耗。現大多采用紅外水分儀來測量各種物料的水分,為了確保檢測的精準度,在紅外水分儀內設有濾光片。?
但是,目前用于水分測量的2100納米帶通紅外濾光片,其信噪比低,精度差,不能滿足市場發展的需要。?
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決上述現有技術的不足而提供一種峰值透過率高,能極大的提高信噪比的2100納米帶通紅外濾光片。?
為了實現上述目的,本實用新型所設計的2100納米帶通紅外濾光片,包括以Bk7玻璃為原材料的基板、以Si和SiO為鍍膜材料的第一鍍膜層和以Si和SiO為鍍膜材料的第二鍍膜層,所述基板位于第一鍍膜層和第二鍍膜層之間,其特征是第一鍍膜層包含從內向外依次排列的厚度為78nm的Si層、厚度為123nm的SiO層、厚度為123nm的Si層、厚度為151nm的SiO層、厚度為167nm的Si層、厚度為119nm的SiO層、厚度為68nm的Si層、厚度為222nm的SiO層、厚度為93nm的Si層、厚度為128nm的SiO層、厚度為78nm的Si層、厚度為210nm的SiO層、厚度為79nm的Si層、厚度為92nm的SiO層、厚度為76nm的Si層、厚度為161nm的SiO層、厚度為68nm的Si層、厚度為148nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為206nm的SiO層、厚度為82nm的Si層、厚度為129nm的SiO層、厚度為165nm的Si層、厚度為180nm的SiO層、厚度為158nm的Si層、厚度為128nm的SiO層、厚度為70nm的Si層、?厚度為305nm的SiO層、厚度為106nm的Si層、厚度為282nm的SiO層、厚度為289nm的Si層、厚度為350nm的SiO層、厚度為185nm的Si層、厚度為287nm的SiO層以及厚度為287nm的Si層;第二鍍膜層包含從內向外依次排列的厚度為143nm的Si層、厚度為285nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為571nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為285nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為285nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為285nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為1142nm的SiO層、厚度為143nm的Si層、厚度為305nm的SiO層、厚度為158nm的Si層以及厚度為158nm的SiO層。?
上述各材料對應的厚度,其允許在公差范圍內變化,其變化的范圍屬于本專利保護的范圍,為等同關系。通常厚度的公差在10nm左右。?
本實用新型得到的2100納米帶通紅外濾光片,能實現中心波長定位在2100±1%納米,峰值透過率達90%以上,截止區透過率小于0.1%,極大地提高了信噪比,提高應用領域產品的探測精度和效能。?
附圖說明:
圖1是實施例的整體結構示意圖;?
圖2是實施例提供的紅外光譜透過率實測曲線圖。?
圖中:基板1、第一鍍膜層2、第二鍍膜層3。?
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。?
實施例:?
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