[實(shí)用新型]低壓干燥預(yù)烘裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220088615.0
• 申請日: 2012-03-09
• 公開（公告）號: CN202453649U
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃寅虎;白明基;楊成紹
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/38
• 分類號: G03F7/38;G03F7/16
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝;王瑩

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及顯示領(lǐng)域，特別是涉及一種用于顯示裝置光刻制造工藝中的低壓干燥預(yù)烘裝置。

背景技術(shù)

薄膜晶體管液晶顯示裝置(Thin?Film?Transistor?Liquid?Crystal?Display，TFT?LCD)的制作工藝中，光刻工藝是重要的環(huán)節(jié)。傳統(tǒng)光刻工藝包括：涂膠前的基板表面預(yù)處理步驟、涂覆(Coating)光刻膠(Photoresist，PR)、低壓干燥(Low?Pressure?Dry)、預(yù)烘(Pre-Bake)、曝光(Exposure)、顯影(Develop)以及硬烘(Hard-Bake)。其中LPD和Pre-Bake環(huán)節(jié)決定了PR膠曝光前的溶劑(Solvent)含量，PR膠進(jìn)行曝光時所需的能量與PR膠中的溶劑含量有著密不可分的關(guān)系。溶劑的含量不同，則曝光時所需能量不同。在曝光設(shè)備無法針對TFT基板某些區(qū)域單獨(dú)調(diào)整曝光能量的情況下，對PR膠的顯影及硬烘完成后，TFT圖案區(qū)(Pattern)的關(guān)鍵參數(shù)顯影關(guān)鍵尺寸(Development?Inspection?Critical?Dimension，DICD)和曝光所采用的半色調(diào)掩膜版厚度(Halftone?MASK?Thickness)存在差異效應(yīng)(Loading?effect)，即基板的邊緣區(qū)域(Glass?edge)和基板的中心區(qū)域(Glass?Center)的圖形關(guān)鍵尺寸存在不一致，繼而影響最終關(guān)鍵尺寸(Final?Inspection?Critical?Dimension，F(xiàn)ICD)均一性，導(dǎo)致產(chǎn)品出現(xiàn)顯示畫面不均的現(xiàn)象。現(xiàn)有技術(shù)中的低壓干燥設(shè)備的結(jié)構(gòu)如圖1所示：該設(shè)備中，下腔室(Down?Chamber)4’通過固定件1’進(jìn)行固定；下腔室4’上設(shè)置有用于放置基板的基臺6，基臺6的周圍，即對應(yīng)基板邊緣的位置設(shè)置有真空管(Vacuum?Pipe)3’；上腔室2’對應(yīng)的設(shè)置在下腔室4’的上方，上腔室2’面向下腔室4’的表面上設(shè)置有升降梯(Lift?Shaft)8’，用于控制上腔室2’下移靠近下腔室4’。當(dāng)基板被送入低壓干燥設(shè)備之后，被放置在基臺6上，上腔室2’由升降梯8’帶動與下腔室4’對合，形成密閉腔體，然后對基板上PR膠內(nèi)的溶劑進(jìn)行抽取。由于真空管3只分布在基板周圍區(qū)域，因此很容易發(fā)生抽溶劑不均勻，造成基板出現(xiàn)差異效應(yīng)，影響顯示品質(zhì)。

另一方面，在預(yù)烘工藝中，為了提高生產(chǎn)節(jié)拍，通常設(shè)計(jì)為流動式。基板在預(yù)烘設(shè)備中不停留，一邊運(yùn)行一邊預(yù)烘。這樣由于基板上溶劑分布的不均勻，預(yù)烘時的溫度不能對基板不同位置均勻預(yù)烘，更不能實(shí)現(xiàn)基板溫度實(shí)時控制，因此導(dǎo)致溶劑在基板不同部位的預(yù)烘效果不同，導(dǎo)致光刻膠厚度不均一，最終影響曝光后的FICD不均一，最終會使產(chǎn)品出現(xiàn)Mura(灰度不均)等顯示品質(zhì)的缺陷。

實(shí)用新型內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問題

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是如何實(shí)現(xiàn)基板上光刻膠厚度的均一性，以避免曝光后出現(xiàn)FICD不均一而影響產(chǎn)品的顯示品質(zhì)。

(二)技術(shù)方案

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種低壓干燥預(yù)烘裝置，包括：上腔室，對應(yīng)的設(shè)置于所述上腔室下方的下腔室，所述下腔室上設(shè)置有基臺，其中，所述上腔室固定在外固定裝置上，所述上腔室面向下腔室的壁面上均勻設(shè)置有若干個真空管，所述下腔室的下方設(shè)置有升降梯。

進(jìn)一步地，所述基臺上均勻設(shè)置有若干個熱盤。

進(jìn)一步地，所述熱盤包括加熱件。

進(jìn)一步地，所述熱盤還包括溫度傳感器和加熱控制器。

進(jìn)一步地，所述加熱件包括電阻絲。

進(jìn)一步地，所述上腔室通過固定件固定在外固定裝置上。

進(jìn)一步地，所述升降梯的底端通過固定件固定在外固定裝置上。

(三)有益效果

上述技術(shù)方案所提供的低壓干燥預(yù)烘裝置，通過均勻分布的真空管對面板進(jìn)行PR膠溶劑的均勻抽取，能夠避免由于溶劑含量的不均導(dǎo)致的差異效應(yīng)，能夠改善顯影關(guān)鍵尺寸，提高顯示品質(zhì)；同時由于在下腔室上設(shè)置了帶有溫度傳感器和加熱控制器的熱盤，實(shí)現(xiàn)了對面板的均勻預(yù)烘，以保證曝光后關(guān)鍵尺寸(FICD)的均一性，避免產(chǎn)品Mura現(xiàn)象的出現(xiàn)；更進(jìn)一步地，由于真空管設(shè)置在固定的上腔室上，避免了來回的升降運(yùn)動造成的真空管裝置的磨損。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)低壓干燥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型低壓干燥預(yù)烘裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；