[實用新型]一種化學氣相沉積爐用沉積室有效
| 申請號： | 201220075583.0 | 申請日： | 2012-03-02 |
| 公開（公告）號： | CN202323024U | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 欒吉剛;閆根程;張宜杰;趙啟民 | 申請（專利權）人： | 煙臺魯航炭材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/46 | 分類號： | C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京輕創知識產權代理有限公司 11212 | 代理人： | 楊立 |
| 地址： | 264006 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 沉積 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學氣相沉積爐用沉積室，包括沉積室本體及上蓋板，其特征在于，所述沉積室本體為圓筒狀結構，所述上蓋板設置在所述沉積室本體的頂部，且與所述沉積室本體密閉連接，所述上蓋板上設有排氣孔。
2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積爐用沉積室，其特征在于，所述沉積室本體采用石墨或炭/炭復合材料制成。
3.根據權利要求1或2所述的化學氣相沉積爐用沉積室，其特征在于，所述上蓋板上的排氣孔為圓孔，其直徑為100mm。
4.根據權利要求3所述的化學氣相沉積爐用沉積室，其特征在于，所述排氣孔為5個。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于煙臺魯航炭材料科技有限公司，未經煙臺魯航炭材料科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220075583.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：制備金屬陶瓷層的裝置
- 下一篇：帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
