[實用新型]玻璃磁控多弧離子鍍膜機

有效

• 申請號: 201220044869.2
• 申請日: 2012-02-11
• 公開（公告）號: CN202482421U
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: 伍振良
• 申請（專利權）人: 伍振良
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C03C17/00
• 代理公司: 佛山市南海智維專利代理有限公司 44225
• 代理人: 梁國杰

技術領域

本實用新型涉及玻璃加工技術領域，尤其是涉及到玻璃鍍膜機。

背景技術

玻璃鍍膜是在玻璃的表面鍍上一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，改變玻璃的光學性能，以滿足某種特定要求的生產工藝。磁控濺射鍍膜是在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，使其原子獲得足夠的能量而濺出進入氣相，然后在工件表面沉積成膜。多弧離子鍍膜是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對工件進行沉積成膜。

目前，傳統的玻璃離子鍍膜機無論是筒體式或臥式，都只是單腔室，每次鍍膜完畢，都要對鍍膜室進行抽真空處理，生產效率低。而且鍍膜室內大都是設置一種鍍膜源，鍍膜的選材比較單一，難以適應多層復合鍍膜玻璃的工藝要求。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種生產效率高，可復合多層鍍膜的玻璃鍍膜機。

本實用新型所要解決的技術問題是通過以下的技術方案來實現：一種玻璃磁控多弧離子鍍膜機，包括真空鍍膜室，其特征在于：所述真空鍍膜室的前后兩端分別連接有真空入料加熱室以及真空出料室，所述真空入料加熱室和真空出料室分別通過真空鎖與真空鍍膜室連通和隔離，所述真空鍍膜室、真空入料加熱室以及真空出料室的室腔內底部均設有傳動機構，其中所述真空鍍膜室的傳動機構設成往復傳動，所述真空鍍膜室的室腔內頂部設有若干電弧蒸發離化源和若干磁控濺射源。

采用本實用新型所帶來的有益效果：由于本實用新型在真空鍍膜室的前后兩端設有分別設有真空入料加熱室以及真空出料室，通過真空入料加熱室和真空出料室完成玻璃入料和出料的真空過渡。真空鍍膜室完成一次抽真空后，就可以連續地分批對玻璃進行鍍膜處理，在真空鍍膜室進行鍍膜的過程中，可同時對真空入料加熱室和真空出料室在入料后和出料后進行抽真空處理，實現玻璃鍍膜的連續作業，提高效率，適合大批量鍍膜玻璃的生產。并且真空鍍膜室同時設有電弧蒸發離化源和磁控濺射源，可同時對玻璃進行多層鍍膜的復合，以適應不同鍍膜玻璃的工藝要求。

附圖說明

圖1為本實用新型玻璃磁控多弧離子鍍膜機的結構示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，一種玻璃磁控多弧離子鍍膜機，包括真空鍍膜室1，所述真空鍍膜室1的前后兩端分別連接有真空入料加熱室2以及真空出料室3，所述真空入料加熱室2和真空出料室3分別通過真空鎖4、5與真空鍍膜室1連通和隔離，所述真空鍍膜室1、真空入料加熱室2以及真空出料室3的室腔內底部均設有傳動機構6，其中所述真空鍍膜室1的傳動機構6設成往復傳動，所述真空鍍膜室1的室腔內頂部設有若干電弧蒸發離化源7和若干磁控濺射源8。

工作流程：首先將要鍍膜的玻璃放入到專用耐高溫傳送托盤9，由傳送機構6把托盤9送入到真空入料加熱室2中，對玻璃進行加熱保溫，然后打開真空鎖4，把裝有玻璃的托盤9傳送到真空鍍膜室1中，在關閉真空鎖4。利用真空鍍膜室1的傳送機構6的往程和返程先后進行磁控濺射鍍膜和多弧離子鍍膜，每種鍍膜的時間和次數按工藝要求設定。完成鍍膜后，打開真空鎖5，把裝有玻璃的托盤8傳送到真空出料室3，然后關閉真空鎖5，卸下已鍍膜玻璃。

真空鍍膜室1在完成一次抽真空后，就可以連續進行鍍膜作業，在工作過程中，只需對真空入料加熱室2和真空出料室3在入料后和出料后進行抽真空處理，可實現玻璃鍍膜的連續作業。