[實用新型]玻璃磁控多弧離子鍍膜機

有效

• 申請號: 201220044869.2
• 申請日: 2012-02-11
• 公開（公告）號: CN202482421U
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: 伍振良
• 申請（專利權）人: 伍振良
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C03C17/00
• 代理公司: 佛山市南海智維專利代理有限公司 44225
• 代理人: 梁國杰

1.一種玻璃磁控多弧離子鍍膜機，包括真空鍍膜室，其特征在于：所述真空鍍膜室的前后兩端分別連接有真空入料加熱室以及真空出料室，所述真空入料加熱室和真空出料室分別通過真空鎖與真空鍍膜室連通和隔離，所述真空鍍膜室、真空入料加熱室以及真空出料室的室腔內底部均設有傳動機構，其中所述真空鍍膜室的傳動機構設成往復傳動，所述真空鍍膜室的室腔內頂部設有若干電弧蒸發離化源和若干磁控濺射源。