[實用新型]一種磁控鍍膜機解除靶中毒裝置

有效

• 申請號: 201220037477.3
• 申請日: 2012-02-07
• 公開（公告）號: CN202830157U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 潘振強
• 申請（專利權）人: 肇慶市振華真空機械有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 李永慶

1.一種磁控鍍膜機解除靶中毒裝置，其特征在于：電磁閥（2）、質量流量控制器（3）、閉環流量控制儀（4）依次通過氣管連接；在所述的閉環流量控制儀（4）上設有一個或一個以上的手動微調閥（5），在該手動微調閥（5）上連接有供氣管（6）；所述的供氣管（6）上設有一個或一個以上的吹氣口（7），該吹氣口（7）吹氣位置與磁控靶（8）相對應。

2.根據權利要求1所述的解除靶中毒裝置，其特征在于：所述的閉環流量控制儀（4）上設有4個手動微調閥（5）。

3.根據權利要求1所述的解除靶中毒裝置，其特征在于：所述的吹氣口（7）成對設置。