[實用新型]低溫真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201220026577.6
• 申請日: 2012-01-20
• 公開（公告）號: CN202465853U
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 史旭
• 申請（專利權）人: 納峰真空鍍膜（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/02
• 代理公司: 上海東亞專利商標代理有限公司 31208
• 代理人: 羅習群;劉瑩

技術領域

本實用新型涉及真空電鍍領域，特別涉及一種低溫真空鍍膜裝置。?

背景技術

常見的真空電鍍，被鍍的產品一般都是金屬制品，因為在真空電鍍條件下，溫度都比較高，傳統的濺射鍍膜也必須在高溫條件下形成較密的膜層，塑料制品等不能耐受高溫，否則將引起產品變形。

實用新型內容

為解決前述存在的問題，本實用新型提供一種低溫真空鍍膜裝置，該裝置一真空鍍膜腔體與過濾陰極離子真空鍍膜源連接，真空鍍膜腔體設有分子真空泵，并在真空鍍膜腔體設有離子束清洗源，清洗被鍍工件，真空鍍膜腔體溫度低于80⁰C，被鍍工件放置于真空鍍膜腔體內，用過濾陰極離子真空鍍膜源對其鍍膜，膜源的粒子方向是可調整的，可從不同的角度對被鍍工件進行鍍膜。

被鍍工件是金屬制品、或是非金屬制品、或是塑料制品、或是橡膠制品。

本實用新型的優點是，被鍍工件即使在小于80⁰C溫度條件下，仍有足夠的鍍層厚度，而且耐磨、耐腐蝕，并且能夠鍍制小型、細薄的塑料制品而不使產品變形，特別適用于某些精細加工行業。?

附圖說明

附圖1是本實用新型主視圖；

附圖2是附圖1的側視圖。?

具體實施方式

請參閱附圖1、2所示，本實用新型是一真空鍍膜腔體3與過濾陰極離子真空鍍膜源1連接，真空鍍膜腔體3設有分子真空泵4，并在真空鍍膜腔體3設有離子束清洗源，清洗被鍍工件，真空鍍膜腔體3溫度低于80⁰C，被鍍工件塑料制品，或橡膠制品放置于真空鍍膜腔體3內，用過濾陰極離子真空鍍膜源1對其鍍膜，膜源1經過濾器2后的粒子方向能夠調整，可以從不同的角度對被鍍工件進行鍍膜。

本實用新型的過濾陰極離子真空鍍膜源1是申請人的專利，屬現有技術。