[實用新型]低溫真空鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201220026577.6 | 申請日： | 2012-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN202465853U | 公開（公告）日： | 2012-10-03 |
| 發明（設計）人： | 史旭 | 申請（專利權）人： | 納峰真空鍍膜（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/22 | 分類號： | C23C14/22;C23C14/02 |
| 代理公司： | 上海東亞專利商標代理有限公司 31208 | 代理人： | 羅習群;劉瑩 |
| 地址： | 201700 上海市青浦區青*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 低溫 真空鍍膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種低溫真空鍍膜裝置，其特征在于，一真空鍍膜腔體與過濾陰極離子真空鍍膜源連接，真空鍍膜腔體設有分子真空泵，并在真空鍍膜腔體設有離子束清洗源，清洗被鍍工件，真空鍍膜腔體溫度低于800C，被鍍工件放置于真空鍍膜腔體內，用過濾陰極離子真空鍍膜源從不同的角度對被鍍工件進行鍍膜。
2.按權利1所述低溫真空鍍膜裝置，其特征在于，所述被鍍工件是金屬制品、或是非金屬制品、或是塑料制品、或是橡膠制品。
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