[實用新型]自旋渦流器有效
| 申請號: | 201220020573.7 | 申請日: | 2012-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN202438236U | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發明(設計)人: | 李偉東 | 申請(專利權)人: | 李偉東 |
| 主分類號: | B01D50/00 | 分類號: | B01D50/00;B01D45/16 |
| 代理公司: | 山東濟南齊魯科技專利事務所有限公司 37108 | 代理人: | 宋永麗 |
| 地址: | 250022 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 自旋 渦流 | ||
1.自旋渦流器,其特征在于:包括碗狀分離罩(1),碗狀分離罩(1)上至少安裝一個雙錐微粒清除管(2),碗狀分離罩(1)底部開設排污口(3)。
2.根據權利要求1所述的自旋渦流器,其特征在于:雙錐微粒清除管(2)中下部為等徑管(5),等徑管(5)的上端與大截錐管(6)的小直徑端相接,等徑管(5)的下端與小截錐管(4)的小直徑端相接,大截錐管(6)的長度大于小截錐管(4)的長度。
3.根據權利要求2所述的自旋渦流器,其特征在于:大截錐管(6)的長度與小截錐管(4)的長度相等,等徑管(5)位于雙錐微粒清除管(2)的中部。
4.根據權利要求2所述的自旋渦流器,其特征在于:大截錐管(6)的內壁與雙錐微粒清除管(2)的垂直中心線間的夾角α1為8°-15°,小截錐管(4)的內壁與雙錐微粒清除管(2)的垂直中心線間的夾角α2為6°-8°。
5.根據權利要求1或2所述的自旋渦流器,其特征在于:雙錐微粒清除管(2)均布在碗狀分離罩(1)的曲面上。
6.根據權利要求5所述的自旋渦流器,其特征在于:碗狀分離罩(1)的上端設置環狀直板擋罩(7),環狀直板擋罩(7)的底端與碗狀分離罩(1)的曲面相接。
7.根據權利要求1所述的自旋渦流器,其特征在于:碗狀分離罩(1)的曲面內壁上設置涂層(8)。
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