[實(shí)用新型]蒸鍍用掩模板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220015901.4
• 申請(qǐng)日: 2012-01-16
• 公開（公告）號(hào): CN202688414U
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏志凌;高小平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04
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• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及OLED制造過程中所需的蒸鍍用掩模板。?

背景技術(shù)

一般地，OLED器件為一種發(fā)射顯示器件，其通過電激發(fā)熒光有機(jī)化合物發(fā)光。依據(jù)可以排列為矩陣的N×M像素的驅(qū)動(dòng)方式，OLED器件可以看作無源矩陣OLED（PMOLED）器件或有源矩陣OLED（AMOLED）器件。AMOLED器件與PMOLED器件相比，由于其低功耗和高分辨率，適合于大尺寸顯示器。?

依據(jù)光從有機(jī)化合物發(fā)出的方向，OLED器件可為頂發(fā)射OLED器件、底發(fā)射OLED器件或頂和底發(fā)射OLED器件。頂發(fā)射OLED器件在與設(shè)置有像素的襯底的相反方向上發(fā)光且與底發(fā)射OLED不同，其具有高開口率（Aperture?ratio）。?

對(duì)于既包含用于主要顯示窗口的頂發(fā)射型又包含用于次要窗口的底發(fā)射型OLED器件的需求正在增長(zhǎng)，因?yàn)榇似骷梢员恍⌒突移湎暮苌俚墓β省＿@樣的OLED器件可以主要用于包括外部次要顯示窗口和內(nèi)部主要顯示窗口的移動(dòng)電話。次要顯示窗口消耗的功率少于主要顯示窗口，且當(dāng)移動(dòng)電話處于呼叫等待狀態(tài)時(shí)它可以保持開的狀態(tài)，從而允許在任何時(shí)候觀察接收狀態(tài)、電池余量、時(shí)間等。?

有機(jī)電致發(fā)光二極管（Organic?Light-Emitting?Diode，OLED）是在一定電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)下，電子和空穴分別從陰極和陽(yáng)極注入到陰極修飾層和空穴注入層，并在發(fā)光層中相遇，形成的激子最終導(dǎo)致可見光的發(fā)射。對(duì)于有機(jī)電致發(fā)光器件，我們可按發(fā)光材料將其分成兩種：小分子OLED和高分子OLED。?

上述有機(jī)電致發(fā)光裝置包括第一電極、有機(jī)發(fā)光層及第二電極。制造有機(jī)發(fā)光裝置時(shí)，通過光刻法，通過腐蝕劑在ITO上構(gòu)圖。光刻法再用來制備第二電極時(shí)，濕氣滲入有機(jī)發(fā)光層和第二電極之間，會(huì)顯著地縮短有機(jī)發(fā)光裝置的壽命，降低其性能。為了克服以上問題，采用蒸鍍工藝將有機(jī)發(fā)光材料沉積在基板上，形成有機(jī)發(fā)光層，該方法需配套高精度蒸鍍用掩模板（也稱為蔭罩）。第二電極的制作同發(fā)光層的制作方法。?

在蒸鍍過程中，隨著時(shí)間的延長(zhǎng)，溫度也在不斷上升，高溫可達(dá)到60℃，由于蔭罩開口尺寸以微米級(jí)衡量，并且需要蒸鍍到ITO玻璃上的有機(jī)材料的厚度很薄，以納米級(jí)單位進(jìn)行衡量，所以對(duì)開口尺寸精度、開口形貌以及板厚需嚴(yán)格要求。由于傳統(tǒng)工藝使用的蒸鍍用蔭罩的開口一般為單層的，蔭罩上的開口也無具無錐度，所以會(huì)造成有機(jī)材料顆粒的遮擋，影響蒸鍍層的均勻性，降低蒸鍍質(zhì)量，增加了制造成本。?

傳統(tǒng)工藝采用單層開口的OLED掩模板，且開口無錐度，如圖1所示，有機(jī)材料顆粒從各個(gè)角度穿過掩模板并貼附于基板上，開口1無錐度，當(dāng)顆粒傾斜射入角度小于或等于θ時(shí)，這部分顆粒會(huì)碰到開口壁而被遮蔽，無法到達(dá)基板。這種現(xiàn)象會(huì)產(chǎn)生以下問題：使傾斜射入的顆粒出現(xiàn)部分缺失，致使輝度下降，并且在基板上不能形成希望的厚度和形狀。?

一般蒸鍍用蔭罩的厚度在100μm左右，而蒸鍍的有機(jī)材料膜厚只在100nm左右，蔭罩上的開口尺寸最小可以是10μm，所以無錐度開口的側(cè)壁勢(shì)必會(huì)在蒸鍍過程中產(chǎn)生遮擋，但另一方面，如果只減薄蔭罩的厚度來降低有機(jī)材料的遮擋程度，又會(huì)影響蔭罩的使用壽命，因?yàn)槭a罩過薄，易變形，影響的蔭罩的使用，降低蒸鍍質(zhì)量。?

傳統(tǒng)的蒸鍍用掩模板的開口種類有三種：點(diǎn)狀蔭罩板（Invar-Shadow?Mask）、柵格式/狹縫蔭罩板（Aperture?Grille?Mask/Slit?Mask）、狹槽蔭罩板（Slot?Mask）。都具有如圖1開口11所述的單面無錐度的開口缺陷。?

本實(shí)用新型提供一種OLED制造過程中所需的蒸鍍用掩模板，該種掩模板具有錐度開口設(shè)計(jì)，即ITO面開口尺寸小于蒸鍍面開口尺寸，解決了有機(jī)顆粒由于開口壁的遮蔽而無法達(dá)到基板的問題。?

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有OLED制造技術(shù)中，蒸鍍時(shí)有機(jī)顆粒由于開口壁的遮蔽而無法達(dá)到基板的技術(shù)問題，提供一種新的蒸鍍用掩模板，使用該掩模板具有有機(jī)材料的使用率高、成膜率高、掩模板使用壽命長(zhǎng)、節(jié)約成本的優(yōu)點(diǎn)。?

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：一種蒸鍍用掩模板，形狀為四邊形金屬板，包括與銦錫氧化物基板接觸的ITO面和蒸鍍面兩個(gè)面，所述掩模板上具有貫通ITO面和蒸鍍面的通孔，通孔在ITO面上的開口尺寸小于在蒸鍍面上的開口尺寸，ITO面和蒸鍍面的通孔開口均具有倒錐角。?