[實用新型]蒸鍍用掩模板

有效

• 申請號: 201220015901.4
• 申請日: 2012-01-16
• 公開（公告）號: CN202688414U
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種蒸鍍用掩模板，形狀為四邊形金屬板，其特征在于，包括與銦錫氧化物基板接觸的ITO面和蒸鍍面兩個面，所述掩模板上具有貫通ITO面和蒸鍍面的通孔，通孔在ITO面上的開口尺寸小于在蒸鍍面上的開口尺寸，ITO面和蒸鍍面的通孔開口均具有倒錐角。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于所述ITO面和蒸鍍面上的通孔開口通過若干個實橋，將開口連接起來，通孔在掩模板上呈規則網格狀分布；所述掩模板為矩形，厚度為5～200μm。

3.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面的通孔開口倒錐角的角度小于蒸鍍面的通孔開口倒錐角的角度。

4.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于掩模板材料為不銹鋼、純鎳、鎳鈷合金、鎳鐵合金、因瓦合金中的任意一種金屬板。

5.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于掩模板厚度為10～50μm。

6.根據權利要求3所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面和蒸鍍面上的開口長尺寸邊的方向為縱向，開口小尺寸邊的方向為橫向；ITO面開口橫向尺寸小于蒸鍍面網格開口的橫向尺寸。

7.根據權利要求6所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面通孔開口橫向上的尺寸精度在±5μm；ITO面的倒錐角開口的垂直深度在5～25μm。

8.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于蒸鍍面大尺寸網格狀開口側壁為光滑錐壁，錐度在30～50°。

9.根據權利要求3所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面的倒錐角開口的垂直深度小于等于蒸鍍面錐角開口的垂直深度。