[發(fā)明專利]顯微鏡檢驗用試樣的制備方法及檢查試樣覆蓋質(zhì)量的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210599204.2
• 申請日: 2012-12-12
• 公開（公告）號: CN103257061B
• 公開（公告）日: 2018-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: B·奈夫;C·維爾克;K-H·維斯特霍夫
• 申請（專利權(quán)）人: 徠卡生物系統(tǒng)努斯洛克有限公司
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;G02B21/34
• 代理公司: 上海專利商標事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 顧峻峰

一種其上蓋有蓋玻片的顯微鏡檢驗用試樣的制備方法。該方法的特征在于覆蓋質(zhì)量被自動地且至少部分地是光學(xué)地檢查。本發(fā)明還涉及執(zhí)行該方法的裝置、成像裝置和用于檢查其上蓋有蓋玻片的試樣的覆蓋質(zhì)量的裝置，該裝置可以快速且可靠地檢查被覆蓋的試樣的覆蓋質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及其上蓋有蓋玻片的顯微鏡檢驗用試樣的制備方法。

本發(fā)明還涉及用于檢查其上蓋有蓋玻片的試樣覆蓋質(zhì)量的裝置。

背景技術(shù)

在顯微研究的準備過程中，例如可以是諸如組織切片的欲查驗的試樣通常被放在載玻片上，并在蓋上蓋玻片之前用覆蓋介質(zhì)進行處理，覆蓋介質(zhì)優(yōu)選具有適合蓋玻片或載玻片折射率的折射率，且起到粘結(jié)劑的功能。由于覆蓋試樣通常是個非常耗時的過程，經(jīng)常為此使用覆蓋機器。

例如從DE 101 44 048 A1已知用于處理載玻片和蓋玻片的裝置。使用該裝置，借助于由致動臂引導(dǎo)的接納單元，蓋玻片被分別接納，并置于載玻片上的期望位置。

在覆蓋過程中會出現(xiàn)多種缺陷。例如，可能會發(fā)生蓋玻片整個或局部破裂的情況，這會導(dǎo)致覆蓋介質(zhì)露出，形成進一步的缺陷。作為進一步的缺陷，在蓋玻片下會出現(xiàn)包含氣體；這將在之后的顯微查驗中造成不利影響，或者使得顯微研究實際上不可能進行。

當(dāng)覆蓋過程中出現(xiàn)缺陷時，這些缺陷通常只有在顯微鏡檢驗中才被發(fā)現(xiàn)。這為常規(guī)實驗室操作帶來了大量嚴重問題，因為這時通常不能重新覆蓋試樣。尤其是在有大量試樣要查驗時，例如在連續(xù)處理中，這種缺陷導(dǎo)致實驗室整體研究效率的大幅度降低，因為整個過程順序而不僅僅是覆蓋過程被打亂了。

US5566249公開了一種用于檢測覆蓋介質(zhì)中的氣泡的裝置。該裝置包括圖像生成器件，蓋玻片的圖像可以利用該器件產(chǎn)生，而且該器件可實施成自動掃描顯微鏡。還設(shè)有用于識別氣泡邊緣和用于進一步的圖像處理的器件。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是描述一種方法，該方法使避免或者至少減輕前面提到的問題成為可能。

這一目的通過一種方法達到，該方法的特征在于，自動地并至少部分在暗場照明下光學(xué)地檢查覆蓋質(zhì)量。

本發(fā)明進一步的目的是描述一種裝置，該裝置使快速且可靠地檢查其上蓋有蓋玻片的試樣的覆蓋質(zhì)量成為可能。

這進一步的目的通過一種裝置來實現(xiàn)，該裝置的特征在于，自動和至少部分在暗場照明下操作的光學(xué)成像裝置。

已認識到，依照本發(fā)明，經(jīng)過早期可靠的覆蓋質(zhì)量檢查，會在常規(guī)實驗室操作中出現(xiàn)的、由于有缺陷地覆蓋試樣而引起的大量問題能夠至少被減輕。關(guān)于試樣是否是有缺陷地被覆蓋的早期檢查，和優(yōu)選地關(guān)于檢測出的缺陷的種類的辨別，使隨后的實驗室過程、特別是顯微鏡檢驗可以在很大程度上與缺陷地覆蓋的試樣無關(guān)。例如通過重新覆蓋，還創(chuàng)造了同時消除所識別的覆蓋缺陷的可能性。

在本發(fā)明的一個特定實施例中，進行關(guān)于在蓋上蓋玻片操作后蓋玻片是否破損的檢查，特別是關(guān)于在覆蓋操作后蓋玻片是否存在裂痕的檢查。作為選擇地或者另外地，可規(guī)定進行在覆蓋介質(zhì)中是否存在包含氣體和/或在蓋玻片和試樣之間是否存在氣體包容物的檢查。作為選擇地或者另外地，還可規(guī)定進行是否存在蓋玻片表面不規(guī)則的檢查。

為了實施前面提到的檢查，可生成蓋玻片和/或覆蓋介質(zhì)中有利地至少一個、優(yōu)選是顯微的圖像。可特別地規(guī)定生成灰度圖像作為圖像。蓋玻片和/或嵌入介質(zhì)的圖像的生成使得特別在生成數(shù)字圖像數(shù)據(jù)時可就是否存在覆蓋缺陷和/或其特性作出自動的、例如計算機控制的分析。在此可以特別規(guī)定，將已知的覆蓋缺陷和/或特定地頻繁出現(xiàn)的覆蓋缺陷的圖像模式存儲在存儲器里，并與所生成圖像的圖像細節(jié)進行比較。

蓋玻片和/或嵌入介質(zhì)被適當(dāng)?shù)卣樟烈陨蓤D像，在此情況下可特別地規(guī)定在明場照明下生成圖像。已發(fā)現(xiàn)特別有利的是，首先在明場照明下生成第一圖像，以對成像的物體進行分類，并選擇性地將它們與參考模式進行比較。