[發(fā)明專利]使用激光蝕刻工藝的鍍覆方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210592385.6
• 申請(qǐng)日: 2012-12-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103451653A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李昌燮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 現(xiàn)代自動(dòng)車株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C28/00
• 分類號(hào): C23C28/00
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)根據(jù)35U.S.C.§119要求于2012年5月31日向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)第10-2012-58296號(hào)的優(yōu)先權(quán)，該申請(qǐng)的公開(kāi)內(nèi)容全部引入本文以供參考。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于材料表面處理的鍍覆方法，更具體地，本發(fā)明涉及通過(guò)激光蝕刻某個(gè)鍍鎳層并在激光蝕刻的鍍鎳層上形成典型的鍍覆層例如MP（多微孔）鍍鎳層和鍍鉻層，來(lái)實(shí)施圖形而不降低外觀、耐腐蝕性、耐磨性等的鍍覆方法。

背景技術(shù)

通常，金屬類部件的工業(yè)產(chǎn)品制造由進(jìn)入原材料、注射成型、鍍覆、涂覆/裝配和裝運(yùn)組成。具體地，鍍覆是在原材料上涂覆其它材料的薄層從而改善原材料表面狀態(tài)的表面處理，其中薄金屬層涂覆在材料表面上。此外，表面處理可改善原材料的耐腐蝕性、耐磨性等，并且可以獲得例如光澤和紋理的效果。

為提供該效果，使用各種類型的鍍覆方法，并且具體地，鉻鍍覆因其在空氣中的高硬度、光澤和低變色而被廣泛用作用于裝飾性鍍覆的完工鍍覆（例如最終鍍覆）。進(jìn)一步地，因其高耐磨性，使用鉻鍍覆作為用于機(jī)械部件、模具、工具等的硬鉻鍍覆（例如工程鉻鍍覆）。

此外，使用如下方法，其中可以使用光澤或無(wú)光澤鍍鎳層來(lái)選擇光澤或無(wú)光澤鉻鍍覆，并且圖1是根據(jù)相關(guān)技術(shù)中如上描述的光澤或無(wú)光澤鉻鍍覆方法的鍍覆結(jié)構(gòu)的示例性視圖。

通常通過(guò)化學(xué)鍍覆方法或電鍍方法來(lái)實(shí)施用于原材料例如丙烯腈-丁二烯-苯乙烯（ABS）樹(shù)脂的常規(guī)光澤或無(wú)光澤鉻鍍覆方法。化學(xué)鍍覆方法是如下鍍覆方法，其中待鍍覆的材料浸泡在化學(xué)鍍覆溶液中，其中不同于電鍍，電流是關(guān)斷的。電鍍方法是使用根據(jù)電解的沉積，經(jīng)另一金屬涂覆原材料表面的方法。

為執(zhí)行光澤或無(wú)光澤鉻鍍覆方法，加工原材料A，隨后通過(guò)用于確保原材料A和鍍覆層的附著的化學(xué)鍍覆方法進(jìn)行蝕刻和活化。蝕刻是在酸溶液中浸泡脫脂和酸處理的材料一段短暫的時(shí)間，從而去除金屬表面上不可見(jiàn)的氧化膜的工藝。活化是用于破壞表面上的鈍態(tài)的處理，或在非金屬材料化學(xué)鍍覆的表面上吸附催化金屬的處理；并且這些方法通常實(shí)施為鍍覆的預(yù)處理。此外，為提供電鍍的導(dǎo)電性，形成約0.2~0.4μm厚的化學(xué)鍍鎳層B。

化學(xué)鍍覆方法之后，執(zhí)行電鍍方法以形成：用于吸收沖擊的緩沖性能的約10~30μm厚的鍍銅層C；用于抗腐蝕和高電壓的約10~20μm厚的半光澤鍍鎳層D；用于“光澤”或“無(wú)光澤”效果、抗腐蝕和低電壓的約8~12μm厚的光澤或無(wú)光澤鍍鎳層E；用于腐蝕電流分散的0.8~1.2μm厚的MP鍍鎳層F；以及用于外觀、耐腐蝕性和耐磨性的約0.15~0.5μm厚的鍍鉻層G。

此外，當(dāng)約8~12μm厚的鍍鎳層E有光澤時(shí)，其被分類為光澤鉻鍍覆方法，且當(dāng)其無(wú)光澤時(shí)，其被分類為無(wú)光澤鉻鍍覆方法。

進(jìn)一步地，當(dāng)鍍銅層C和MP鍍鎳層F包括在整個(gè)鍍覆層內(nèi)時(shí)，可進(jìn)一步改善鍍覆的物理特性。

然而，當(dāng)在通過(guò)常規(guī)光澤或無(wú)光澤鉻鍍覆方法完成的材料表面上進(jìn)行激光蝕刻而蝕刻圖形時(shí)，鍍鉻層G或MP鍍鎳層F可被激光蝕刻工藝損傷，并因此可能降低外觀、耐腐蝕性、耐磨性等。此外，當(dāng)鍍鉻層G是有色鍍鉻層G例如白色鍍鉻層或深色鍍鉻層時(shí)，一部分或整個(gè)有色鍍鉻層可能被激光蝕刻工藝損傷，且因此不能獲得期望的顏色效果或可靠性。

而且，近來(lái)，盡管用于消費(fèi)者的產(chǎn)品選擇的材料表面的光澤特性是相對(duì)重要的，但常規(guī)的光澤和無(wú)光澤鍍覆方法限于獲得產(chǎn)品差異，因?yàn)閮H提供光澤或無(wú)光澤但不控制圖形的光澤水平或無(wú)光澤水平。

以上提供的作為本發(fā)明相關(guān)技術(shù)的描述僅用于幫助理解本發(fā)明的背景，并不應(yīng)解釋為包括在本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的相關(guān)技術(shù)中。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供通過(guò)鍍鎳層上的激光蝕刻工藝并在由激光蝕刻工藝形成的激光蝕刻鍍鎳層上形成典型的鍍覆層來(lái)蝕刻圖形而不使鍍鎳層有缺陷的方法，其中通過(guò)鍍鎳層的蝕刻厚度來(lái)控制圖形的亮度。

使用激光蝕刻工藝的本發(fā)明的鍍覆方法包括：在原材料的表面上形成鍍鎳層；通過(guò)在鍍鎳層上激光蝕刻圖形來(lái)形成激光蝕刻層；以及在激光蝕刻層上形成鍍鉻層。

此外，形成激光蝕刻層還可以包括在形成激光蝕刻層之后去除源自激光蝕刻工藝的污染物并通過(guò)超聲洗滌和電解脫脂來(lái)洗滌表面。此外，在原材料的表面上形成鍍銅層，然后在其上形成鍍鎳層。

此外，在形成鍍鉻層時(shí)，在激光蝕刻層上形成MP（多微孔）鍍鎳層并在其上形成鍍鉻層。