[發明專利]垂直式光波導及其制造方法

在審

• 申請號: 201210589103.7
• 申請日: 2012-12-29
• 公開（公告）號: CN103901535A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 李秉衡
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B6/122
• 分類號: G02B6/122;G02B6/13
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種垂直式光波導，其包括一個基底，在該基底的頂面上垂直于該頂面開設有一個第一凹槽及一個第二凹槽，該第一凹槽的延伸方向與該第二凹槽的延伸方向互相平行，該第一凹槽與該第二凹槽之間形成一個突起部，該突起部上擴散有鈦金屬。

2.如權利要求1所述的垂直式光波導，其特征在于，該基底的材料采用鈮酸鋰晶體。

3.如權利要求1所述的垂直式光波導，其特征在于，從該基底的頂面到該第一凹槽的底部的距離與從該基底的頂面到該第二凹槽的底部的距離相等。

4.如權利要求1所述的垂直式光波導，其特征在于，該第一凹槽與該第二凹槽之間的距離為9微米。

5.一種如權利要求1~4任一項所述的垂直式光波導的制造方法，其包括以下步驟：

提供一個基底；

在該基底上垂直于該基底的頂面切割出第一凹槽及第二凹槽，該第一凹槽與該第二凹槽之間形成一個突起部；

在該基底的頂面上涂布光阻覆蓋整個基底；

去掉覆蓋在該突起部上的光阻；

在該突起部上鍍上鈦膜；

去掉光阻；及

對覆蓋在突起部上的鈦膜進行高溫擴散形成垂直式光波導。

6.如權利要求5所述的垂直式光波導的制造方法，其特征在于，采用晶圓切割機，并采用精密的切割砂輪。

7.如權利要求5所述的垂直式光波導的制造方法，其特征在于，在該基底上垂直于該基底的頂面切割出第一凹槽及第二凹槽后進行清洗。

8.如權利要求5所述的垂直式光波導的制造方法，其特征在于，在涂布光阻時以6000轉以上的速度進行旋轉涂布。

9.如權利要求5所述的垂直式光波導的制造方法，其特征在于，通過黃光微影去掉覆蓋在該突起部上的光阻。

10.如權利要求5所述的垂直式光波導的制造方法，其特征在于，該光阻的材質為聚甲基丙烯酸甲酯，該光阻浸泡在甲醇溶液中被去除。