[發明專利]一種改進型大尺寸樣品硒化處理裝置有效
| 申請號: | 201210581601.7 | 申請日: | 2012-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN103904154A | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發明(設計)人: | 李弢;華志強;吳云翼;郜健 | 申請(專利權)人: | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人: | 劉茵 |
| 地址: | 100088 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 改進型 尺寸 樣品 處理 裝置 | ||
1.一種改進型大尺寸樣品硒化處理裝置,其特征在于,其包括外殼(1),原料容器(2),原料加熱裝置(3),基片支撐臺(4),基片加熱器(5),原料加熱裝置熱電偶(6),基片加熱器熱電偶(7)和溫度顯示及控制裝置;
該外殼(1)為中空密閉容器;
該原料容器(2)設置在外殼(1)內,其中盛裝原料硒;原料容器(2)內具有原料加熱裝置(3),該原料加熱裝置(3)上設置原料加熱裝置熱電偶(6);
該基片支撐臺(4)放置于外殼(1)內,其上設置基片加熱器(5),基片加熱器(5)上設置基片加熱器熱電偶(7),基片放置在該基片加熱器(5)上;
該原料加熱裝置(3),基片加熱器(5),原料加熱裝置熱電偶(6)和基片加熱器熱電偶(7)分別與溫度顯示及控制裝置連接。
2.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述外殼(1)的側壁上設置補償加熱裝置(8),該外殼(1)的內壁上設置補償加熱熱電偶(9),兩者分別連接所述溫度顯示及控制裝置。
3.如權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述基片加熱器(5)的外徑為50~250cm。
4.如權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述外殼(1)為圓筒形,所述基片支撐臺(4)為圓柱形,放置在該外殼(1)的底部;在外殼(1)的內壁和基片支撐臺(4)的外側壁之間形成環形槽作為原料容器(2),該原料加熱裝置(3)環設在該環形槽底部,在原料加熱裝置(3)上對稱設置至少一對原料加熱裝置熱電偶(6)。
5.如權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述外殼(1)由不銹鋼、石墨或石英材料制成。
6.如權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述基片為單晶氧化物基片、Si基片、陶瓷材料基片或半導體材料基片。
7.一種蒸汽法制備硫族、磷族元素化合物薄膜的裝置,其特征在于,該裝置采用權利要求1-6中任一項所述的結構,其中,所述原料容器(2)中盛裝砷、碲或銻原料。
8.權利要求1-6中任一項所述的裝置在制備CuInGaSe薄膜太陽能電池材料或FeSe超導材料中的應用。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





